AMOLED Overweight(신규) · 2014. 4. 12. · 적용한 amoled 디스플레이가 향후 적용...

반도체/디스플레이 담당 이정

Tel. 368-6124

[email protected]

반도체/디스플레이 담당 곽민정

Tel. 368-6027

[email protected]

Rating & Target Top Pick 투자의견 목표가(12M)

제일모직 BUY 150,000원

에스에프에이 BUY 80,000원

덕산하이메탈 BUY 30,000원

테크노세미켐 BUY 56,000원

아바코 BUY 20,000원

나노신소재 BUY 22,000원

The New Revolution of Display!!

- Oxide TFT를 적용한 AMOLED 디스플레이

Oxide TFT가 디스플레이산업 영역을 대폭 확대시켜 새로운 성장국면으로 견인!!

– 2011년 디스플레이산업은 LCD-TV가 정체국면에 접어들면서 차세대 디스플레이인 AMOLED

와 3D-TV, 스마트TV가 주목을 받으며 새로운 돌파구를 모색하고 있음. 당사는 Oxide TFT를

적용한 AMOLED 디스플레이가 향후 적용 영역을 다양하게 넓히면서 디스플레이산업을 새로운

성장국면으로 견인시킬 것으로 예상함

– Oxide TFT는 480Hz 이상의 고속구동과 UD급 고해상도 AMOLED를 구현해 무안경 3D-TV

성장을 가속시킬 것임. 또한, 상온공정이 가능하여 플렉서블 디스플레이가 상용화될 수 있고,

투명전극소재이어서 투명디스플레이가 현실화되어 디스플레이산업의 영역을 대폭 확대시킬 것

으로 전망

Oxide TFT 기술이 8세대 AMOLED backplane에 적용될 전망

– AMOLED 투자비 중에서 TFT backplane 부분이 60~70%에 달하여 AMOLED 패널 제조원가

에 가장 결정적임. Oxide TFT가 poly-Si TFT 대비 제조원가 경쟁력이 월등히 뛰어나 8세대

이상 대형라인에 적용될 것임. 그리고 a-Si TFT 대비 전자이동도가 10배 이상 빨라 고속구동과

고해상도 구현에 절대적으로 유리하기 때문에, 차세대 TFT 기술이 될 것으로 전망

– 삼성전자는 8세대라인 TFT공정에서는 Oxide TFT를, 유기물증착공정에서는 LITI방식을 채택할

가능성 높음. LG디스플레이는 Oxide TFT와 White OLED방식의 조합을 추진할 것으로 판단됨.

최근 일본 Sharp가 2011년 내에 Oxide TFT를 적용시킨 라인을 가동할 것이라고 발표하였으며,

삼성전자는 2012년에 AMOLED-TV를 출시할 예정인데, 당사는 이 때 Oxide TFT 기술이

적용될 수 있을 것으로 예상함

Conviction Buy: 제일모직, 에스에프에이

– Oxide TFT 디스플레이가 본격적으로 성장할 경우, 핵심적 재료인 Oxide 재료업체와 투명플라

스틱 기판업체, 스퍼터와 같은 핵심장비업체들이 크게 수혜를 받을 것임. 당사는 Conviction

Buy업체로 '제일모직'과 '에스에프에이'를 선정함. 그리고 2011년부터 AMOLED산업이 본격적

으로 성장함에 따라, '덕산하이메탈'과 '테크노세미켐', '아바코' 등을 추천함

Oxide TFT를 적용한

AMOLED 디스플레이

고해상도/대면적

디스플레이

플렉서블

디스플레이

투명디스플레이

무안경 3D-TV

자료: 유진투자증권

자료공표일 23May2011

Overweight(신규) AMOLED

Contents Summary

I. The New Revolution of Display – Oxide TFT를 적용한 AMOLED 디스플레이

1. Oxide TFT를 적용한 디스플레이가 디스플레이산업의 신혁명 주도!!

2. AMOLED 산업 전망

II. AMOLED산업 성장의 수혜업체

1. Oxide TFT를 적용한 AMOLED 디스플레이 성장의 수혜업체

기업분석

LG 디스플레이(034220.KS)

제일모직(001300.KS)

에스에프에이(056190.KQ)

덕산하이메탈(077360.KQ)

테크노세미켐(036830.KQ)

아바코(083930.KQ)

나노신소재(121600.KQ)

3

18

72

76 77 79 81 83 88 90 95

Overview

자료: Toshiba, 유진투자증권

자료: 삼성전자, 유진투자증권

구분 poly-Si TFT a-Si TFT Oxide TFT

세대 4G 8G 8G 반도체 polycrystalline Si amorphous Si amorphous InGaZnO TFT uniformity Poor Good Good TFT Type PMOS(CMOS) NMOS NMOS 이동도 ~100㎠/Vs 1㎠/Vs >10㎠/Vs 마스크 수 5~11 4~5 4~5 제조비용 High Low Low 신뢰성(105hr) △Vth < 0.5V △Vth > 5.0V △Vth < 1.0V 회로내장 Yes No Yes Process Temperature 450~550°C 150~350°C 150~350°C

Device Merits High Uniformity Temp. Stability High Reliability

No Kink No hot carrier effect

Low loff Process/Scalability

Gen. 8

Photolithography PECVD Sputter

Dry Etcher


Dry Etcher


Dry Etcher

Gen. 4 ELA

Low Shower Furnace

No Crystallization No ion doping (Ultra low cost)

자료: 산화물 TFT기술 및 AMOLED응용(인포메이션 디스플레이 2009년 제10권 4호), Displaybank, 유진투자증권

Overview

▪ TFT Structure

- Bottom Gate: Easy to reduce # of mask steps, Back channel control- Top Gate: High mobility, Complex Process steps

▪ Gate Insulator

- Interface state generation- Low temperature durable insulator

▪ S/D Contact

- Material Selection- Interface control- Adaptability of conventional process

▪ Semiconductor

- Cation ratio control- Oxygen content control

자료: Displaybank, 유진투자증권

- Gate : ITO (Sputter)- Patterning : Wet etch

- Gate insulator : SiO2 (PECVD)- Channel : GIZO (Sputter)- Patterning : Wet etch

- E/S(etch stop) layer : SiO2 (PECVD)- Patterning : Dry etch

- Source/Drain : ITO (Sputter)- Patterning : Wet etch

- Passivation : SiO2 (PECVD)- Patterning : Wet etch

1. Gate

2. Active

3. E/S

4. S/D

5. Passivation


자료: 시장자료, 유진투자증권

Overview

LCD Electrophoretic OLED

Merit Merit Merit

공정기술 확보 박막형성 용이 박막형성 용이

Dynamic/ Memory 안정한 구조 안정한 구조

투과/반투과 가능 Roll-to-Roll Process 빠른 응답특성

Demerit Demerit Demerit

불안정구조 Dynamic type 불가 Memory type 불가

Back Light Color 구현 어려움 전류구동

광학필름 사용 높은 구동전압 수명 자료: 플렉서블 액정디스플레이 기술동향(2010, 최윤석), 유진투자증권

0

4,000

8,000

12,000

16,000

20,000

24,000

28,000

32,000

2008 2009 2010 2011 2012F 2013F 2014F 2015F 2016F 2017F 2018F 2019F 2020F

(US$mn)

CAG R: 113%


① See-Through Display ② Information Window

③ Mobile UI Innovation④ Design & Function

Enhancement

Application별로

다른 구동방식을

채용


Overview

구분 세부사항 FPR SG

안경 가격 개당 1만원 개당 7~8만원

무게 및 기타 특징 18g(클립형 안경 지원) 26g(호환성 없음)

해상도 Full HD 어두운 장면에 상대적으로 해상도

저하 어두운 장면에도 우수한 해상도 구현

깜박거림(flicker) 현상 조명 환경과 상관없이 Flicker현상 미미 형광등 환경에서 Flicker현상 두드러짐

화면 겹침(Crosstalk)및 시청위치

자율성

근거리 시청 때 상하 위치에 따라

화면 겹침 현상 두드러짐

시청각도를 수평으로 기울일수록 3D

영상구현이 떨어지다, 수평에 이르면 검게

변함


3D디스플레이 안경유무 좌우영상분리방법 3D Technology

스테레오스코픽

(Stereoscopic)

안경식 공간분할

시간분할

무안경식 공간분할

시간분할

Barrier

Lenticular

편광방식

Shutter Glasses

Switchable Barrier

Switchable Lens

체적형

홀로그래피


L

R

L

R

L

L

R

R

PatternedRetarder

분리된좌/우 영상

L L L L L L L L L L L L

L L L

R R R

R R R

R R R

L L L

R R R

L L L

(

L RPolarizerGlasses

L

R

L

R

L

L

R

R

PatternedRetarder


L L LL L L L L LL L L L L LL L L L L LL L L

L L LL L L

R R RR R R

R R RR R R

R R R

L L L

R R RR R R

L L LL L L

R R R

L L L

R R RR R R

L L LL L L

(

L RPolarizerGlasses


Overview



R R R R R R R R R R R R






고속 구동 Panel

L R

( (

L R L R Shutter Glasses(LC Panel)

+ =

L R 3D( ( ( ( ( (





L L L L L L L L L L L LL L LL L L L L LL L L L L LL L L L L LL L L


R R R R R R R R R R R RR R RR R R R R RR R R R R RR R R R R RR R R










고속 구동 Panel

LL RR

( (


+ =

L R 3D( ( ( ( ( (


L R L R L R

LenticularLens

L R L R L R

LenticularLens


LC

L R L R L R

SwitchableBarrier Cell

Voltage on → Lens on → 3D mode(Voltage off, 2D mode)

LC

L R L R L R




Overview

자료: NICT, 유진투자증권

Cathode

Electron Injection Layer (EIL)

Electron Transport Layer (ETL)

Emission Layer (EML)

Hole Transport Layer (HTL)

Hole Injection Layer (HIL)

Anode

Substrate

[OLED의 기본구조 ][OLED의 동작원리 ]

Light

CathodeOrganicAnode

자료: KISTI, 유진투자증권

Backplane OLED

Driv ing Circu i t uni t OLED panel

Encapsulation Backplane OLED pixe l

PCBSubstrate

Getter

Polarizer

M oduleprocess

Encap.&scribing

자료: 전자부품연구원, 유진투자증권

Overview

PMOLED

AMOLED

- 저소비전력 디스플레이의 구현이 가능

- 고해상도 디스플레이 구현이 가능

- 고휘도의 디스플레이 구현이 가능

- 다양한 화면 크기의 디스플레이 구현이 가능

- 자발광 디스플레이

- 고속응답특성 : 완벽한 동영상 구현 가능

- 시야각이 넓음

- 박형으로 제조가 가능

자료: AMOLED 기술 현황 및 전망(2010.9. 순천향대학교 문대규), 유진투자증권

TFT backplane

OLED layer

Sealing & Scribing

Module Process

Substrate

Substrate

Substrate

R G B


AMOLED TFT Array

AMLCD

Organic EL

Evaporation

(R,G,B)

Encapsulation PolarizerCircuit &

D-IC

TFT Array

LC Filling Assembly PolarizerBLU

Assembly

C/F

Circuit &

D-IC


Overview

자료: Displaysearch, 유진투자증권


ELA A-SPC SGS IGZO(Oxide)

공정 저온 laser 이용 결정화급속고온(600°C) 열처리

결정화

이동성 100㎠/Vs 10~20㎠/Vs 10~40㎠/Vs 10㎠/Vs 이상

균일도 낮음 높음 높음 높음

안전성 매우 높음 높음 높음 높음

Mask 사용 개수 7~10 4~5 4~5 4~5

공정온도 저온 고온 고온 저온

비용 높음 낮음 낮음 낮음

공정 복잡성 높음 낮음 낮음 낮음

대형화 5.5G 이하 6G 이하 8G 이상 8G 이상

자료: Displaybank, 업계자료, 유진투자증권

Overview

특성값

이동성 균일도 안정성 Mask 개수 공정온도 비용 공정복잡성 대형화 여부

100㎠/Vs 낮음 매우 높음 7~10 저온 높음 높음 ~5.5G


특성값


9㎠/Vs 높음 높음 4~5 저온 낮음 낮음 >8G


LTPS TFT

LASER SPC

ELA TB-SLS MIC-SGS

OXIDE TFT

Overlap 90% scan Overlap under 50% scan Fast Silicide crystallization Additional process for MO

Grain Size : 0.1 ~ 0.5um Grain Size : 0~ um Low Temp process : <550℃ Mobility : 1 ~ 20㎠/Vs

Mobility : 60~80㎠/Vs Mobility : 80~120㎠/Vs Mobility : ~ 50㎠/Vs

Regular Grain

Line Mura - Non uniformity Depend on direction of

crystallization Design rule Good performance

Need to compensate circuit Regular grain Moira mura Limit of device characteristics

Need to modify process Metal pollution

Need to compensate circuit Bad local uniformity

Device Stability :

Vth Shift by UV irradiation

Done the verification of

Mass Production Don't verification of Mass product


Overview

R G B

Mask

Source

Substrate Substrate Substrate Substrate Substrate


자료: SMD, 유진투자증권

B G R

OLED

C/F


Overview

ITO patterning & Cleaning Red layer 형성

Bank 형성/ 표면처리 Green layer 형성

Buffer layer 형성 전극증착

Nozzle




Overview




Overview

0

2,000

4,000

6,000

8,000

10,000

12,000

14,000

16,000

18,000

2008 2009 2010 2011F 2012F 2013F 2014F 2015F 2016F 2017F

(US$mn)

0

50

100

150

200

250

300

(yoy,%)AMOLED 매출액

증가율(우)


0

100,000

200,000

300,000

400,000

500,000

600,000

2008 2009 2010 2011F 2012F 2013F 2014F 2015F 2016F 2017F

(천대)

0

50

100

150

200

250

(yoy,%)AMOLED 출하량

증가율(우)


0

500

1,000

1,500

2,000

2,500

2008A 2009A 2010F 2011F 2012F 2013F

(톤)

'08~'13

CAGR 16%

자료: 나노신소재, 유진투자증권

Overview

자료: 아바코, 유진투자증권

자료: 제일모직, 유진투자증권

기업명 제품 투자의견 목표주가

제일모직 투명플라스틱기판 BUY 150,000원

에스에프에이 스퍼터장비 BUY 80,000원

아바코 스퍼터장비 BUY 20,000원

나노신소재 Oxide 타겟, ITO 타겟 BUY 22,000원


Overview

Items Makers Trends

Laser Crystallization AP시스템 G4 and G5.5 PO

Evaporation 에스에프에이 Developing Vertical evaporator

SNU Developing Vertical evaporator

주성엔지니어링 Developing Horizontal evaporator

Encapsulation 선익시스템 Developed Encapsulator, Pilot equipment PO

아바코 Developed Encapsulator

에스에프에이 Developed Encapsulator

Inspection NCB 네트웍스 G4 inspector PO, Developing G5.5 inspector

탑엔지니어링 Developing AMOLED Array inspector



–

Analyst 이정/곽민정 | 디스플레이

18_ www.Eugenefn.com

I. The New Revolution of Display – Oxide TFT를 적용한 AMOLED 디스플레이

1. Oxide TFT를 적용한 디스플레이가 디스플레이산업의 신혁명 주도!!

1) 2011년 디스플레이산업은 새로운 성장을 준비하는 과도기

2011년 디스플레이산업은 우려와 희망이 함께 교차하면서 혼란스러운 한 해가 될 것으로 판단된다. LCD-

TV의 성장성이 급격히 약화되면서 정체국면으로 접어들고 있는 반면, TV세트업체들은 시장 수요를 창출시

키기 위해 스마트TV와 3D-TV 등을 출시하며 공격적인 마케팅을 펼치고 있다. 그리고, AMOLED산업에서

5.5세대라인이 본격적으로 가동되면서 중대형 AMOLED 디스플레이 출시에 대한 기대감이 팽배해 있는 동

시에, Oxide TFT를 적용한 차세대 디스플레이 또한 주요 패널업체들이 개발에 나서고 있다. 당사는 2011

년 디스플레이산업은 쇠퇴로 접어들기보다는 새로운 성장을 준비하는 과도기이며, 이러한 차세대 디스플레

이의 방향성에 대해 언급하며 투자전략을 세우고자 한다.

최근 국내 디스플레이시장에서는 안경식 3D 기술을 가지고 삼성전자와 LG디스플레이가 논쟁을 격렬하게

벌이며 뜨거운 반향을 불러일으키고 있다. 당사는 3D 기술이 실감영상을 구현한다는 점에서 향후 디스플레

이산업에서 핵심적인 기술 중 하나가 될 것으로 예상한다. 하지만, 안경식 3D-TV가 부족한 3D 콘텐츠와

안경의 불편함, 다양한 기술적 난제 등 때문에 쇠락하고 있는 LCD-TV시장을 재차 성장세로 전환시키기

어려울 것이며, 무안경식 3D-TV가 개발되면 수년 내 사라질 것으로 판단한다. 일본 Toshiba는 지난

2010년 12월 무안경식 3D-TV(12인치/20인치)를 출시한 데 이어, 2011년 1월 CES에 56인치/65인치

무안경식 3D-TV를 선보였으며, 2011년 내에 40인치대/50인치대 무안경 3D-TV를 제품화하여 내놓을 것

이라고 발표하였다. 당사는 TV세트업체들이 향후 디스플레이시장에 큰 혁신을 몰고 올 수 있는 무안경식

3D-TV나 Oxide TFT 기술을 적용시킨 플렉서블 디스플레이 혹은 투명디스플레이 개발에 더 집중해야 할

것이며, 지금 안경식 3D-TV에 대해 과도하게 논쟁을 벌이고 있는 것으로 판단한다.

도표 1

자료: Toshiba, 유진투자증권

www.Eugenefn.com _19


시장이 기대하는 것과 달리, 당사는 안경식 3D-TV가 디스플레이산업을 재차 성장시킬 수 있을 것으로

보지 않는다. 오히려 현 시점은 IT와 TV가 대표적인 디스플레이였던 TFT-LCD산업이 성장의 정체기에

진입함에 따라, 다양한 차세대 디스플레이에 대해 논의하고 준비해야 하는 시기로 판단된다.

디스플레이산업이 성장하기 위해서는, 디스플레이산업이 현재 가지고 있는 고정적 틀에서 벗어날 수 있는,

새로운 디스플레이 출현이 필요하다. 즉, 차세대 디스플레이는 지금까지의 정형화된 개념이 아니라, 휘어지

고, 투명하며, 화면 전송속도가 수십 배 빨라 무안경 3D 기능이 구현되는 동시에, IT와 TV에서 벗어나

상업용 대형 디스플레이까지 적용될 수 있어야 할 것이다.

그래서, 지금 시장참여자들은 AMOLED산업에 열광하고 있고, Oxide(산화물반도체) TFT 적용 디스플레이

에 주목하고 있는 것이다. 당사는 대부분 투자자들이 AMOLED산업에 대해 깊은 관심을 갖고 있지만, 상대

적으로 Oxide TFT를 적용시킨 디스플레이는 덜 알려져 있는 것으로 판단한다. Oxide TFT 기술이 적용된

디스플레이가 구현되면, 지금 FHD보다 4배 우수한 UD(Ultra Definition) 화질에 전송속도가 기존 LCD-

TV 대비 10~40배 이상 빨라 환상적인 무안경식 3D-TV가 이 세상에 출현할 수 있다. 최근, 일본 Sharp

가 2011년 4월 Oxide TFT를 적용한 패널을 양산하겠다고 발표하였고, 삼성전자 역시 2010년부터 공격적

으로 개발에 박차를 가하고 있어 Oxide TFT가 적용된 패널이 2012년 이후에 양산될 수 있을 것으로 판단

된다.

당사는 이번 보고서에서 차세대 디스플레이인 AMOLED산업의 높은 성장성에 대해 언급할 것이며, 특히

디스플레이산업의 정형화된 틀을 깨면서 새로운 성장기로 이끌 차세대 기술인 Oxide TFT 기술을 중심으로

자세히 논하고자 한다.

도표 2 ‘ ’




2) Oxide TFT가 3D UD 디스플레이시대를 주도한다!

삼성전자는 지난 2010년 11월 일본에서 열린 'FPD 인터내셔널 2010'에 이어, 이번 2011년 5월 미국에서

70인치 산화물반도체(Oxide Semiconductor) UD(Ultra Definition) 240Hz LCD 패널을 선보였다. 특히

이번 제품은, 1) FHD 해상도보다 4배 더 선명한 800만 화소 UD 해상도에 2) 240Hz 고속구동을 통해 3)

3D 영상을 실감나게 표현한 특징을 가지고 있다.

당사가 여기에서 주목하고 있는 것은 바로 Oxide Semiconductor(산화물반도체)를 적용한 LCD패널의 우수

성이다. 기존 a-Si(Amorphous Silicon) 기반의 TFT 기술은 전자의 이동 속도가 0.5㎠/V·sec 정도여서

60인치 이상의 초대형 화면에서는 고해상도, 고속구동 실현이 어려웠다. 하지만 Oxide TFT를 적용할 경우,

기존 a-Si 대비 10배 이상의 전자이동도가 가능해 초대형 디스플레이에서도 고해상도와 고속구동이 가능해

지며, 이를 통해 480Hz 이상의 고속구동 패널이 개발될 수 있어 향후 무안경 3D 패널 개발에 매우 중요한

기폭제가 될 수 있다는 점이다. 즉, Oxide TFT를 적용한 디스플레이는 LCD의 한계점을 극복한 차세대

디스플레이 성장을 위한 신기원(新紀元)인 것이다.

도표 3

자료: 삼성전자, 유진투자증권



차세대 디스플레이로 가장 주목받고 있는 AMOLED 디스플레이는 대형화에 필수적인 TFT기판 기술이

확보되지 않아서 주로 소형 모바일제품에 제한적으로 적용되고 있다. 기판 대형화의 관점에서 LCD 기판

기술인 a-Si(비정질 실리콘) TFT 소자기술은 이미 8세대 양산이 진행 중이기 때문에 가장 검증된 기술일

뿐만 아니라 제조비 관점에서도 가장 유리하다. 그러나, a-Si(비정질 실리콘) TFT 소자는 낮은 신뢰성

때문에 AMOLED 디스플레이에 적용되기가 어렵다는 단점이 있다. 이는, LCD의 경우 구동소자가 단순히

스위치 기능만 하는데 비해, AMOLED에서는 안정적으로 전류를 공급하는 드라이버 기능도 요구되기 때문

이다.

이를 좀 더 자세히 살펴보면, LCD는 스스로 발광하지 못하고, 백라이트의 광원을 통과시키는 간접광원을

가지고 있다. 즉, 액정 물질을 셔터로 이용하여 셔터가 완전히 개방되면 최대 밝기가 되고, 완전히 닫히면

최소 밝기가 되며, 이러한 셔터의 노출 정도는 양극과 음극의 전위차(전압)에 따라 결정되므로 LCD는 전압

구동소자라 한다. TFT-LCD는 pixel 구동을 위한 트랜지스터가 한 개만 있어도 되는데, 이 때 트랜지스터

는 단순한 스위치 기능만 한다. 반면, OLED는 스스로 발광하는 자발광 물질인 유기 발광체가 각각의 화소

에 도포되어 있는데, 이러한 유기 발광체의 밝기는 양극과 음극간에 도통되는 전류량에 비례한다. 즉, 화면

의 밝기가 전류량에 따라 결정되는 OLED는 전류구동소자이다. AMOLED는 TFT-LCD와 달리 화소 구동

을 위한 트랜지스터가 최소 2개 이상 있어야 하고, 한 개는 스위치 기능을, 다른 한 개는 전류구동 기능을

한다.

현재 AMOLED 생산 및 개발에 가장 많이 이용되고 있는 poly-Si TFT(LTPS TFT) backplane은 신뢰성

이 우수하고 TFT 특성이 우수한 장점이 있다. 하지만, 제조공정이 복잡하며 유리기판 크기가 4~5세대에

국한되어 있어 소형 AMOLED에 주로 적용되고 있다.

상술한 기존 실리콘 기반의 TFT 기술의 대안으로 현재 가장 유력한 기술은 ZnO 기반의 Oxide TFT 소자

이다. Oxide TFT 소자는 별도의 결정화와 도핑공정을 필요로 하지 않기 때문에 기판 대형화라는 관점에서

poly-Si 방식과 비교했을 때에 매우 유리하다. 현재까지 8세대 이상의 기판규격에서 Oxide TFT 소자 기술

의 검증이 완성된 상태는 아니지만, Oxide TFT 증착방법인 DC 혹은 AC 스퍼터링법의 경우 이론적으로

8세대 이상이 가능하다. TFT 소자 특성 중 대표적인 이동도의 경우 Oxide TFT 소자는 a-Si TFT 소자에

비해 10배 이상 우수한 약 10㎠/Vs 수준을 가지고 있어, 노트북 혹은 AMOLED-TV의 backplane으로

사용되기에 충분하다. Oxide TFT 소자는 a-Si과 poly-Si TFT 소자의 장점을 동시에 보유하고 있는 것이

다.



도표 4


세대 4G 8G 8G

반도체 polycrystalline Si amorphous Si amorphous InGaZnO

TFT uniformity Poor Good Good

TFT Type PMOS(CMOS) NMOS NMOS

이동도 ~100㎠/Vs 1㎠/Vs >10㎠/Vs

마스크 수 5~11 4~5 4~5

제조비용 High Low Low

신뢰성(105hr) △Vth < 0.5V △Vth > 5.0V △Vth < 1.0V

회로내장 Yes No Yes

Process Temperature 450~550°C 150~350°C 150~350°C

Device Merits High Uniformity Temp. Stability

High Reliability

No Kink

No hot carrier effect

Low loff

Process/Scalability

Gen. 8

Photolithography

PECVD

Sputter

Dry Etcher

Photolithography

PECVD

Sputter

Dry Etcher

Photolithography

PECVD

Sputter

Dry Etcher

Gen. 4

ELA

Low Shower

Furnace

No Crystallization

No ion doping

(Ultra low cost)




3) Oxide TFT의 구조와 제조공정 과정

Oxide TFT 소자기술에 대한 연구 및 개발은 일본 동경대 Hosono교수가 2004년 Nature지에 비정질

IGZO(InGaZnO) 박막을 이용한 TFT소자 제작을 발표하고 난 이후이다. 특히, 비정질 IGZO 박막의 경우

에는 PLD(Pulsed Laser Deposition) 방법을 이용하여 상온에서 증착이 가능하기 때문에 플라스틱 기판 위

에서도 이동도 10㎠/Vs, Ion/off비 106의 우수한 TFT 특성을 보여주면서 디스플레이산업 발전에 획기적인

전기를 마련하였다.

Hosono교수의 발표 이후, 전 세계적으로 Oxide TFT 연구는 매우 활발하게 진행되고 있다. 최근까지 연구

된 내용은 주로 Oxide TFT의 이동도, 게이트 스윙, Ion/off비 등의 디바이스 특성을 개선하기 위한 방안이다.

이러한 학계의 연구가 상용화에 적용되기 시작하여, 지난 2011년 4월 21일 일본 Sharp는 세계 최초로

중소형 LCD라인에 Oxide TFT기술을 적용시켜 2011년 내에 본격 가동할 것이라고 발표하였다. 삼성전자

는 2010년 11월 70인치 대형 Oxide TFT를 적용한 LCD 패널을 전시회에 출시하며 공격적으로 기술 개발

에 나서고 있다.

도표 5




Oxide(산화물반도체) 물질로는 ZnO, InZnO, ZnSnO, InGaZno, ZrInZnO 등이 연구되고 있다. ZnO는

산화물반도체 물질 내에서도 상대적으로 높은 이동도 특성을 보이고 있으나, 상온에서도 비교적 쉽게 결정

화가 이루어져 대면적 균일도 특성 확보에 관한 연구가 더 필요하다. InZnO는 증착조건을 제어해서 일반적

으로 나타나는 전도체 특성이 아닌 반도체 특성의 확보가 가능하나, 아직 전기적 신뢰성 특성의 향상이

요구된다.

이에 반해, IGZO(InGaZnO)는 높은 전자의 이동성과 우수한 신뢰성 등으로 가장 많이 연구되고 있다.

물론, In이 희귀금속이고 비싸다는 단점이 있지만, IGZO의 성능이 우수해서 삼성전자와 LG디스플레이가

채택할 가능성이 높다고 판단된다.

도표 6


Oxide TFT의 경우, TFT 구조 및 공정에 따라 산화물반도체(Oxide) 막의 전기적 특성이 변화하여 소자

구조에 대한 연구가 중요하다. 우선적으로 Back channel etch 구조는 현재 상업화에 사용되는 a-Si TFT

의 구조와 동일하여 기존의 설계 및 공정을 활용할 수 있다는 장점이 있다. 하지만, Source/Drain 전극의

patterning시에 산화물반도체(Oxide) 물질의 전기적 특성이 변하게 되는 단점을 가지고 있다. 이를 방지하

기 위하여 wet etching방법을 사용할 수 있다. 그러나 일반적으로 Source/Drain으로 사용되는 금속을

에칭(etch)하는 acid용액에 산화물반도체(Oxide) 물질도 같이 에칭되는 단점이 있다.

이에 반해 etch stopper 구조의 경우, Source/Drain 형성 및 passivation 공정 시에 etch stopper 박막이

산화물반도체(Oxide) 박막을 보호하고 있어서 상대적으로 안정적인 전기적 특성 확보가 가능하다. 하지만

추가 mask가 필요하다는 단점이 있다.



도표 7 –

자료: 산화물 TFT기술 및 AMOLED응용(인포메이션 디스플레이 2009년 제10권 4호), 유진투자증권

도표 8

▪ TFT Structure

- Bottom Gate: Easy to reduce # of mask steps, Back channel control- Top Gate: High mobility, Complex Process steps

▪ Gate Insulator

- Interface state generation- Low temperature durable insulator

▪ S/D Contact

- Material Selection- Interface control- Adaptability of conventional process

▪ Semiconductor

- Cation ratio control- Oxygen content control




Oxide TFT가 backplane에 적용될 경우, 공정상 변화되는 부분이 스퍼터(Sputter) 공정이 늘어나는 것이

특징적이며, 기존 poly-Si TFT 공정대비 Oxide TFT의 공정수가 절반 수준이어서 원가경쟁력이 높다.

그리고, 기존 TFT 공정에 사용되는 장비의 활용도가 매우 높고, 신규 설비투자 규모를 최소화할 수 있는 점

은 가장 큰 장점으로 판단된다.

도표 9






1. Gate

2. Active

3. E/S

4. S/D

5. Passivation




4) Oxide TFT의 장점

Oxide(산화물반도체) TFT가 주목받고 있는 것은, 최근 디스플레이산업 전반에 걸쳐 일어나고 있는 변화와

밀접한 관계를 가지고 있다. 요즘 TV시장은 스마트TV와 함께 3D-TV, AMOLED-TV가 중요한 화두가

되고 있다. 영화 '아바타' 이후 실감영상에 대한 시장의 관심이 매우 높은 상황 속에서, 3D-TV가 제대로

구현되기 위해서는 480Hz(1초에 480장의 화면을 전송) 이상의 고속구동기술이 필요하다. 이를 실현하기

위해서는 LCD를 구동하는 TFT(박막트랜지스터)의 소재와 제조공정에 획기적인 변화가 있어야 한다.

그래서, 삼성전자는 현재 주력인 a-Si(비정질 실리콘)으로 TFT를 제조하는 공정을 Oxide(산화물반도체)로

대체하고자 시도하고 있다.

산화물반도체(IGZO Oxide)는 1) 전자이동도를 40배 이상 대폭 향상시킬 수 있어 UD 화질(고해상도) 구현

이 가능하여, 2) 무안경식 3D-TV 성장을 가속시킬 것이며, 3) Oxide(산화물반도체)는 상온에서 제작할 수

있기 때문에 기판을 유리 대신 플라스틱으로 할 수 있어 플렉서블 디스플레이를 구현할 수 있고, 4) Oxide

물질이 투명해서 투명디스플레이가 가능하며, 5) 실감영상(3D)을 즐기기 위해서는 60인치 이상의 대형 TV

가 유리하기 때문에 11세대라인 투자가 진행되면서 디스플레이산업에 새로운 성장동력이 제공될 수 있고,

6) 결국, 디스플레이 시장 영역이 DID시장까지 확대되어 디스플레이산업이 재차 성장국면으로 전환될 수

있는 중요한 기폭제를 제공할 것이다.

도표 10


세대 4G 8G 8G

반도체 polycrystalline Si amorphous Si amorphous InGaZnO

TFT uniformity Poor Good Good

TFT Type PMOS(CMOS) NMOS NMOS

이동도 ~100㎠/Vs 1㎠/Vs >10㎠/Vs

마스크 수 5~11 4~5 4~5

제조비용 High Low Low

신뢰성(105hr) △Vth < 0.5V △Vth > 5.0V △Vth < 1.0V

회로내장 Yes No Yes

Process Temperature 450~550°C 150~350°C 150~350°C

Device Merits High Uniformity Temp. Stability

High Reliability

No Kink

No hot carrier effect

Low loff

Process/Scalability

Gen. 8

Photolithography

PECVD

Sputter

Dry Etcher

Photolithography

PECVD

Sputter

Dry Etcher

Photolithography

PECVD

Sputter

Dry Etcher

Gen. 4

ELA

Low Shower

Furnace

No Crystallization

No ion doping

(Ultra low cost)




AMLCD-TV가 발전함에 따라 이를 구동하는 TFT는 속도 증가가 필수적이다. 해상도 증가에 따라 주어진

시간에 구동해야 하는 TFT의 개수가 늘어서 1개의 TFT가 동작해야 하는 시간(TFT turn-on-time)이

줄어들게 된다. 또한 구동속도가 증가하게 되면, 한 화면을 구성해야 하는 시간(60Hz의 경우 16.6msec,

240Hz의 경우 4.3msec)이 줄어들어, 이 또한 TFT turn-on-time의 감소를 야기한다. 대형화의 경우

소자를 연결하는 배선의 길이가 길어져 저항이 증가하고 이는 회로속도 지연(RC delay)의 증가로 이루어진

다. 이러한 TFT turn-on-time의 감소는 TFT의 속도 증가를 필요로 하게 되고 결국 TFT 이동도의 증가

가 요구된다. 이러한 점에서, Oxide TFT는 전자의 이동도를 40배 이상 향상시켜 고해상도를 구현할 수

있는 장점을 가지고 있다. 결국, 고해상도 구현은 무안경식 3D-TV의 기술적 한계를 일시에 극복시키며

디스플레이산업에 새로운 혁명을 가져올 것으로 예상된다.

도표 11

자료: 산화물 TFT기술 및 AMOLED응용(인포메이션 디스플레이 2009년 제10권 4호), 유진투자증권



5) Oxide TFT의 응용처

Oxide TFT(산화물반도체)를 적용한 디스플레이는 `1) 중대형 AMOLED와 2) 플렉서블 디스플레이(Flexible

display), 3) 투명디스플레이(Transparent display), 4) 고해상도 AMOLED, 5) 무안경식 3D-TV, 6) 초대

형 TV시장 및 DID시장 등에 응용될 수 있을 것이다.

첫째, 차세대 디스플레이로 주목받고 있는 AMOLED에서 중대형으로 구현되기 위해서는, 이를 구현하는

TFT가 대면적 균일도 및 전류 신뢰도가 동시에 만족되어야 한다. 현재 소형 AMOLED에서 사용 중인

poly-Si TFT(LTPS)의 경우에는 우수한 전류 신뢰도를 보이고 있으나, 대면적 적용시 균일도 특성의 향상

이 필요하다. 한편 a-Si(비정질) TFT의 경우에는 대형 AMOLED 적용을 통하여 대면적 균일도 특성은

검증되었으나, 전류신뢰도 특성에 문제점을 가지고 있다. 이에 비해, Oxide TFT는 대면적 균일도와 전류

신뢰도를 동시에 만족할 수 있어 차세대 중대형 AMOLED에 적용될 것으로 판단된다.

둘째, 플렉서블 디스플레이(Flexible display)가 구현되기 위해서는, 열적 내구성이 유리기판 대비 열악한

플라스틱 기판 상에 TFT가 구현되어야 한다. 기존 a-Si TFT도 플라스틱 기판 상에 구현하는 기술들이

발표되었으나, a-Si 반도체 물질은 특성상 고온공정을 적용할수록 TFT 소자의 전기적 특성 및 신뢰성 특성

이 우수해진다. 이에 반하여 Oxide 물질은 우수한 전기적 특성을 얻기 위하여 고온공정이 아닌 일반 상온공

정에서 이루어진다. 결국, 플라스틱을 기판으로 활용해서 제조할 수 있기 때문에, 플렉서블 디스플레이 구현

이 가능하며, 디스플레이산업의 영역을 대폭 확대시킬 수 있는 획기적인 계기를 제공해 줄 것이다.

세 번째 응용처는 투명디스플레이(Transparent display)이다. a-Si 반도체 물질은 가시광 영역을 흡수하여

불투명하지만, Oxide 물질은 상대적으로 높은 Bandgap을 이용해서 투명한 소자에 적용이 가능하다. 당사

는 투명디스플레이는 플렉서블 디스플레이와 함께 디스플레이시장 영역을 확대시키는 중요한 기폭제가 될

것으로 판단한다.

넷째, 고해상도 AMOLED를 구현할 수 있다. 고품질의 영상을 구현하기 위하여 디스플레이의 해상도가

기존 FHD(Full High Definition)에서 UD(Ultra Definition)급 이상으로 발전해야 되고, 동영상 품질을

향상시키기 위하여 구동속도 역시 120Hz(초당 120장의 화면 제공)에서 240Hz 이상으로 발전해야 한다.

이러한 고해상도와 고속 구동이 진행됨에 따라서 TFT의 구동속도 역시 증가되어야 하고, 이를 위해서는

고이동도의 TFT가 필요하다. Oxide TFT는 기존 a-Si TFT대비 높은 이동도를 보여 고해상도 AMLCD

디스플레이 구동소자로 적용이 가능하다.

다섯째, Oxide TFT가 고해상도와 고속구동을 구현시켜 줌에 따라, 무안경식 3D-TV의 성장이 가속될 것

으로 예상된다. 무안경식 3D-TV의 기술은 오래 전에 세상에 나왔지만. 해상도 문제에 직면하여 성장하지

못했다. 하지만, 고해상도 문제가 해결되면, 무안경식 3D-TV가 본격적으로 성장할 수 있는 중요한 기폭제

가 될 전망이다.

여섯 번째, 실감영상(3D)을 제대로 즐기기 위해서는 60인치 이상의 초대형 TV가 유리하다. 따라서, 무안경

식 3D-TV와 플렉서블 디스플레이, 투명디스플레이 성장은 DID시장과 결부되어 초대형 디스플레이시장을

형성시킬 것이며, 결국 패널업체들이 11세대라인 투자에 나서면서 디스플레이산업이 또 한번 대폭 성장할

수 있는 중요한 계기가 될 것으로 예상된다.



6) 플렉서블 디스플레이(Flexible Display)

DID시장 영역으로 확대되어 디스플레이산업의 새로운 성장기를 주도할 전망!!

Oxide TFT가 적용되는 디스플레이가 시장의 주도권을 장악하게 될 가장 큰 이유 중 하나가 바로 플렉서블

디스플레이(Flexible Display)의 구현이다. Oxide TFT는 상온 혹은 저온공정에서 제조되기 때문에, 유리

대신 플라스틱을 기판으로 사용할 수 있어 혁신적인 디스플레이인 플렉서블 디스플레이가 상용화될 수 있다.

도표 12

자료: 업계자료, 유진투자증권



플렉서블 디스플레이의 상용화는 디스플레이산업의 영역을 대폭 확대시켜 새로운 성장국면으로 전환할 수

있는 획기적인 계기가 될 것으로 판단된다. 삼성전자는 향후 플렉서블 AMOLED라인을 투자할 것으로 알려

져 있으며, 제일모직이 플라스틱 기판을 국책과제로 개발하고 있다.

도표 13

Inverted & Flexible OLEDThin Film Encapsulation

Thin & Flexible Module

Substrate Barrier

Low Temperature TFT

Substrate Handling Technique

Plastic Substrate - CTE: 3ppm/K (~Glass) - 350℃ Process

Carrier

Passivation Layer

Cathode

Organic LayersAnode

TFT




플렉서블 디스플레이의 핵심 기술은 1) 기판 기술, 2) TFT(구동소자) 기술, 3) 디스플레이 모드(mode) 기술,

4) 디스플레이용 소재, 공정 및 장비 기술이다. 플렉서블 디스플레이를 '모드'측면에서 분류하면, LCD와

OLED, 전기영동 디스플레이(EPD; Electrophoretic Display)가 있다. TFT 기술을 고려해 볼 때, 당사는

궁극적으로 Oxide TFT를 적용한 플렉서블 OLED와 EPD가 플렉서블 디스플레이시장 성장을 주도할 것으

로 예상한다.

도표 14

LCD Electrophoretic OLED

Merit Merit Merit

공정기술 확보 박막형성 용이 박막형성 용이

Dynamic/ Memory 안정한 구조 안정한 구조

투과/반투과 가능 Roll-to-Roll Process 빠른 응답특성

Demerit Demerit Demerit

불안정구조 Dynamic type 불가 Memory type 불가

Back Light Color 구현 어려움 전류구동

광학필름 사용 높은 구동전압 수명 자료: 플렉서블 액정디스플레이 기술동향(2010, 최윤석), 유진투자증권



플렉서블 디스플레이시장은 향후 고성장을 구현할 수 있을 것이다. 2010년 약 3,400만US달러였던 시장

규모가 2015년 24억US달러, 2020년 300억US달러로 급격히 성장할 것으로 예상된다. 성장 초기에는 전자

책 및 광고판 중심으로 소형 디스플레이에 적용되겠지만, 휴대폰을 중심으로 한 중소형 제품에서 상업용

디스플레이시장인 DID시장으로까지 지속적으로 적용영역을 확대시키며 큰 폭으로 성장할 전망이다.

도표 15

0

4,000

8,000

12,000

16,000

20,000

24,000

28,000

32,000

2008 2009 2010 2011 2012F 2013F 2014F 2015F 2016F 2017F 2018F 2019F 2020F

(US$mn)

CAGR: 113%




7) 투명디스플레이 미래의 디스플레이산업 성장을 주도할 차세대 디스플레이!!

투명디스플레이(Transparent Display)란 디스플레이 자체가 일정 정도의 투과도를 가지고 있어서 화면의

뒷배경이 보이는 디스플레이를 말한다. 건물이나 차량의 창문, 상가의 쇼윈도에 적용될 수 있으며, 고유의

기능뿐 아니라 정보 제공의 형태로도 활용 가능한 미래 디스플레이 중 하나로 주목받고 있다.

뛰어난 디자인과 성능 특성으로 기존 디스플레이시장의 상당 부분을 대체하게 될 것으로 예상된다. 특히

건축용, 광고용, 공공용 등 그 동안 디스플레이를 적용하지 못했던 제품에도 보다 유연하고 새롭게 적용되

면서 신규시장을 창출시켜 디스플레이시장 규모가 대폭 확대될 수 있을 것이다.

도표 16

① See-Through Display ② Information Window

③ Mobile UI Innovation④ Design & Function

Enhancement

Application별로

다른 구동방식을

채용




투명디스플레이가 구현되기 위해서는, 1) 전원이 작동되지 않을 시, 유리 수준의 투명도를 확보할 수 있는지

와 2) 전원 작동시 DID수준의 화질과 휘도가 시현될 수 있는지, 3) 장소적 제약에서 자유로울 수 있는지 등

에 대한 이슈가 있다.

현재 디스플레이시장에서 주로 사용하는 LCD는 편광필름(투과도 1/2 감소)과 각종 광학필름, 구동 TFT의

배선, 컬러필터 등으로 인해 투과도(약 6%)가 낮다. 또한 자발광이 아닌 백라이트를 사용하기 때문에

차세대 디스플레이로 적용되기에는 단점으로 작용한다.

OLED의 경우 유기 발광층이 투명하기 때문에 음극으로 사용하는 전극의 두께를 얇게 해, 양쪽 전극을

투명하게 하면 투명디스플레이 구현(투과도 60~80%)이 가능하다. 특히, TFT 전극을 형성함에 있어, 투명

물질인 Oxide가 기존의 실리콘계열 물질을 대체하면 투명디스플레이 구현이 앞당겨질 수 있다. 그래서,

당사는 Oxide TFT를 적용한 디스플레이 기술에 대해 크게 주목하고 있는 것이다.

도표 17






1. Gate

2. Active

3. E/S

4. S/D

5. Passivation




도표 18 도표 19

CES(2011.01)

19”, 4K

한국전자전 2010

47” TFT-LCD

자료: Displaybank, 유진투자증권 자료: Displaybank, 유진투자증권



8) 무안경 3D-TV 진정한 실감영상을 즐기는 시대를 앞당긴다!!

2011년에는 3D-TV가 시장의 관심을 크게 받고 있다. 삼성전자와 LG디스플레이가 안경식 3D-TV 기술

논쟁을 벌이면서 공격적인 마케팅을 실시함에 따라, 시장의 관심을 크게 끌고 있는 것이다.

삼성전자와 Sony가 주도하고 있는 SG(셔터글라스) 방식대비 FPR 3D 패널이 분명 장점이 많은 것으로

판단된다. 깜박거림(flicker) 현상이 거의 없고 안경가격이 저렴하며, 각각의 FPR 디스플레이제품을 동일한

안경으로 볼 수 있다는 장점이 있다. 그러나, 3D-TV 방식에서 FPR방식은 대형 크기로 갈수록 FPR용

편광필름 가격이 비싸지고 제조공정 수율도 크게 낮아지는 단점이 있다. 이 때문에 FPR 3D-TV는 대형

사이즈에서 가격 경쟁력이 약해질 수 있으며, 이에 비해 SG방식은 크기에 관계없이 구동회로와 셔터글라스

로 구성되므로 대면적 패널일수록 가격경쟁력을 가질 수 있다.

그리고, 삼성전자와 소니가 주도하고 있는 SG(Shutter Glass)방식은 세트업체의 기술력에 의존한 3D 구현

방식이며, FPR 3D 패널은 패널업체들의 기술력에 기반한 방식이다. 그래서, 3D 구현에 기술력이 부족한

중국업체들이 LG디스플레이의 FPR 3D 패널에 크게 호응하고 있는 것이다. 결국, 이 부분에서 FPR 패널

이 가격 프리미엄을 누릴 수 있을지에 대해 의구심이 든다. 과거 LED-TV용 패널은 출시 초기에 기존

CCFL-TV용 패널대비 높은 가격 프리미엄을 향유했다. 그러나, 어려운 LCD업황과 약한 고객기반 등으로

FPR 3D 패널이 가격프리미엄을 누리기가 쉽지 않을 전망이다. 따라서, 시장의 실적 예상치와 패널업체

실적과의 괴리감이 상당기간 발생할 수 있을 것이다.

도표 20

구분 세부사항 FPR SG

안경 가격 개당 1만원 개당 7~8만원

무게 및 기타 특징 18g(클립형 안경 지원) 26g(호환성 없음)

해상도 Full HD 어두운 장면에 상대적으로 해상도 저하 어두운 장면에도 우수한 해상도 구현

깜박거림(flicker) 현상 조명 환경과 상관없이 Flicker현상 미미 형광등 환경에서 Flicker현상 두드러짐

화면 겹침(Crosstalk)및 시청위치 자율성근거리 시청 때 상하 위치에 따라

화면 겹침 현상 두드러짐

시청각도를 수평으로 기울일수록 3D

영상구현이 떨어지다, 수평에 이르면 검게 변함 자료: 시장자료, 유진투자증권



지금 당장 3D-TV시장이 폭발적으로 성장하기에는, 1) 부족한 3D 콘텐츠와 2) 안경의 불편함 등으로 쉽지

않을 것으로 전망된다. 당사는 현 시점에서는 SG방식과 FPR방식의 기술 논쟁보다는 각 국가와 업체들이

3D 콘텐츠 개발에 적극적으로 나서야 하며, 동시에 무안경식 3D-TV 개발에 공격적으로 나서야 한다고

판단한다. 앞에서 상술한 것처럼, Oxide TFT를 적용한 디스플레이가 구현되어 고해상도가 실현되면,

무안경식 3D-TV 성장이 본격화될 수 있을 것이다. 특히 2H11에 Toshiba가 출시할 40/50인치급 무안경

3D-TV가 큰 반향을 불러일으키는 동시에 삼성전자가 2012년에 Oxide TFT를 적용한 AMOLED-TV를

출시하면서 무안경식 3D-TV에 대한 획기적인 기술발전을 제공해 준다면, 중장기적으로 무안경식 3D-TV

가 TV 성장의 대세를 형성할 수 있을 것으로 예상된다.

3D 영상을 재현하기 위한 디스플레이 방식은 스테레오스코픽(Stereoscophic) 디스플레이와 체적형 디스플

레이, 홀로그램 등으로 나눌 수 있다.

스테레오스코픽 디스플레이는 대부분 CRT, LCD, OLED, PDP 등을 이용하여 만들어지며, 양안시차를

갖는 2장의 2D 영상을 좌우의 눈에 따로따로 분리, 제시하여 화면의 전후에 깊이감 있는 공간을 재현할 수

있다. 스테레오스코픽 디스플레이 방식에는 특수한 안경을 필요로 하는 안경식과 안경을 필요로 하지 않는

무안경식으로 분류한다. 양안시차와 폭주를 이용하는 스테레오스코픽 디스플레이는 양안시차에 기인하여

물체의 전후 정보만을 재현시키는 것이 주된 목적이기 때문에 당연히 물체의 측면 정보를 잃게 되고, 측면

에 있어서는 공간재현에 있어 부자연스러움이 나타나는 단점이 있다.

도표 21

3D디스플레이 안경유무 좌우영상분리방법 3D Technology

스테레오스코픽

(Stereoscopic)

안경식 공간분할

시간분할

무안경식 공간분할

시간분할

Barrier

Lenticular

편광방식

Shutter Glasses

Switchable Barrier

Switchable Lens

체적형

홀로그래피




현재 일반적으로 개발되고 있는 3D 디스플레이를 구현하는 방식에 대해 살펴보면, 우선 Patterned

Retarder 방식이라고 알려진 편광안경방식은 Patterned Retarder Plate를 통해 동시에 분리된 좌/우 영상

이 좌/우 편광이 구분된 안경을 통해 눈에 각각 전달되어 양안시차를 발생시키는 방식이다. 현재 LG디스플

레이가 채택하고 있는 FPR방식은 편광안경방식에서 진보된 기술이다.

편광안경방식은 저비용으로 구현가능하고, 고휘도이면서 3D 혼선에서 우수하며, 세트업체들이 단시간내

제품화가 가능하다는 장점을 가지고 있는 반면, 3D 상하 시야각이 협소하고 수직해상도가 저하되는 단점을

가지고 있다.

도표 22

L

R

L

R

L

L

R

R

PatternedRetarder



L L L

R R R

R R R

R R R

L L L

R R R

L L L

(

L RPolarizerGlasses

L

R

L

R

L

L

R

R

PatternedRetarder


L L LL L L L L LL L L L L LL L L L L LL L L

L L LL L L

R R RR R R

R R RR R R

R R R

L L L

R R RR R R

L L LL L L

R R R

L L L

R R RR R R

L L LL L L

(

L RPolarizerGlasses




둘째, 삼성전자와 소니가 채택하고 있는 SG(Shutter Glasses)방식은 고속 구동패널에서 순차적으로 표시

되는 각각의 좌/우 영상이 전기적 신호에 따라 눈에 빛을 투과 및 차단하는 shutter 안경을 통해 양쪽 눈에

각각 전달되어 양안시차를 발생시키는 방식이다.

SG방식을 이용하면 가장 낮은 비용으로 패널양산이 가능하며, 2D/3D패널에 공용으로 적용할 수 있고,

해상도 저하없이 FHD구현이 가능하다는 장점을 가지고 있는 반면, 고비용의 Shutter 안경이 필요하고,

화면 외에 주변 환경 관찰시 깜박거림이 발생하는 단점을 가지고 있다.

도표 23









고속 구동 Panel

L R

( (


+ =

L R 3D( ( ( ( ( (

















고속 구동 Panel

LL RR

( (


+ =

L R 3D( ( ( ( ( (


셋째, Lenticular Lens 방식은 화면에 부착된 Plastic Lens Plate로 좌/우 영상이 동시에 표시되고, 정보가

취합되는 적정거리(각도)에서 양안시차를 발생시키는 방식이다. Lenticular Lens 방식을 이용하면 낮은

비용과 안경을 필요로 하지 않는다는 장점을 가지고 있는 반면, 2D와 3D 전환이 불가능하고, 3D 해상도가

떨어지며, Lens 부착 기술이 필요하다는 단점을 가지고 있다.

도표 24

L R L R L R

LenticularLens

L R L R L R

LenticularLens




넷째, Switchable Barrier 방식은 전기적 신호에 따라 Barrier 기능을 on/off 할 수 있는 Switchable

Barrier Cell을 통해 좌/우 영상이 동시에 표시되고, 정보가 취합되는 적정거리(각도)에서 양안시차를 발생

시키는 방식이다. Switchable Barrier 방식을 이용하면, 2D/3D 전환이 가능하고 안경을 쓰지 않는 장점을

가지고 있는 반면, 3D 휘도 개선이 불가능하고 3D 해상도가 1/2 저하되는 단점을 가지고 있다.

도표 25

LC

L R L R L R



LC

L R L R L R




물론, 차세대 디스플레이의 대세를 형성하게 될 것으로 예상하는 무안경 3D-TV는 기술적으로 몇 가지

난제를 가지고 있다. 1) 낮은 해상도와 2) 느린 화면 전송속도 때문에 이미지가 왜곡되어 두통이 유발되고,

3) 시야각이 심하게 흔들릴 가능성이 높다는 점과 같은 기술적 어려움 때문에 무안경식 3D-TV에 대한

부정적 시각이 많다.

그러나, Oxide TFT는 고해상도 디스플레이 구현을 가능하게 할 뿐만 아니라, 지금의 a-Si 방식의 전송

속도대비 10~40배 빠른 특성을 가지고 있다. 따라서, Oxide TFT를 적용한 디스플레이가 출시되면, 무안

경 3D-TV시장이 가파르게 성장할 수 있는 중요한 계기가 될 것이다.

도표 26

자료: NICT, 유진투자증권



2. AMOLED산업 전망

1) OLED의 정의 및 분류

OLED(Organic Light Emitting Diode)는 양극과 음극 사이에 기능성 박막형태의 유기물층이 삽입되어

있는 구조로, 양극에서 정공이 주입되며 음극에서 전자가 주입되어, 유기물층 내에서 이동하면서 전자와

정공이 만나 빛이 발생되는 발광소자이다. OLED는 소자의 전기적인 특성이 LED와 유사하며, 발광층으로

유기물을 사용하기 때문에 유기발광다이오드 혹은 유기발광소자(Organic Light Emitting Device)라고

하기도 하고, OLED는 소자의 양단에 전압을 가하면 유기물층에서 전자와 정공의 재결합에 의해 발광이

일어나기 때문에 유기EL(Electro-Luminescence) 소자라고도 한다.

도표 27

Cathode

Electron Injection Layer (EIL)

Electron Transport Layer (ETL)

Emission Layer (EML)

Hole Transport Layer (HTL)

Hole Injection Layer (HIL)

Anode

Substrate

[OLED의 기본구조 ][OLED의 동작원리 ]

Light

CathodeOrganicAnode


OLED는 1997년 일본의 Pioneer에 의하여 처음 상용화된 후 그 잠재적 특성으로 인해 많은 관심을 받았다.

그러나, 재료, 공정, 디스플레이 특성의 모든 면에서 성능이 제대로 구현되지 못하면서 한동안 침체기에

빠져 있었다. 그러나 2007년 SMD(Samsung Mobile Display)가 AMOLED를 본격적으로 양산한 이후,

LCD보다 우수한 화질 때문에 휴대폰을 중심으로 채택되면서 시장의 관심을 크게 받고 있다. 현재 OLED는

삼성전자와 삼성SDI의 합작법인인 SMD가 전세계 AMOLED 제품의 대부분을 생산하고 있다. OLED는

비록 국내에서 최초로 상용화한 기술은 아니지만, 성장 초기부터 국내업체가 세계시장을 선도해 나가고

있어 시장참여자들이 크게 주목하고 있는 것이다.



OLED의 기본 구조는 정공주입층(HIL, Hole Injection Layer)과 정공수송층(HTL, Hole Transport

Layer), 전자주입층(EIL, Electron Transport Layer), 전자수송층(ETL, Electron Transport Layer),

발광층(EML, Emission Layer) 등의 기능성 유기물층으로 구성되어 효율 및 수명을 향상시킨다. 정공주입

층은 정공의 주입을 용이하게 하며, 정공수송층은 주입된 정공의 이동을 용이하게 한다. 전자주입층과 전자

수송층은 전자의 주입과 수송을 용이하게 한다. 주입된 전자와 정공은 발광층에서 재결합하도록 소자가

설계되며, 발광층에는 미량의 도판트(Dopant)를 도핑하여 효율의 향상, 색의 조정 등을 수행한다.

그리고 OLED 디스플레이는 OLED 패널과 Driving circuit 부분으로 구성되어 있으며, 이 중 OLED 패널

부분은 기판, Backplane, OLED pixel, Encapsulation으로 이루어진다.

도표 28

Backplane OLED

Driv ing Circu it uni t OLED panel

Encapsulation Backplane OLED pixel

PCBSubstrate

Getter

Polarizer

M oduleprocess

Encap.&scribing


OLED는 발광재료에 따라 고분자와 저분자로 나누어지며, 이에 따라 제조공정이 달라진다. 저분자의 경우

는 주로 새도우 마스크(Shadow Mask)를 사용하는 진공열증착(Vacuum Thermal Evaporation) 방법으로

성막하며, 효율 및 수명이 좋고, 컬러구현이 용이하여 대부분 OLED생산에 적용되고 있다.

고분자는 통상 PLED(Polymer Light Emitting Diode)라고 하며, 주로 잉크젯 혹은 스핀 코팅 등의 용액

공정에 의해 박막으로 코팅되기 때문에 대면적화가 유리한 장점이 있다. 유럽의 일부 기업에서 잉크젯

(inkjet) 혹은 spin coating 방법을 사용하여 단색 OLED 생산에 적용하고 있으며, 고분자 OLED의 컬러

구현을 위해서는 잉크젯 코팅 방법이 주로 사용되고 있다.



OLED는 발광방식에 따라 형광(Fluorescent) 및 인광(Phosphorescent) 방식으로 구분된다. 형광 OLED는

재결합된 여기자의 25%만을 발광에 이용할 수 있기 때문에, 내부양자효율(Internal Quantum Efficiency

- 주입된 전하에 대한 소자내에서 생성된 광자의 비율)이 25%이며, 외부양자효율(External Quantum

Efficiency - 주입된 전하에 대한 소자 외부로 방출되는 광자의 비율)이 약 5%이다.

인광 OLED는 재결합에 의해 형성된 여기자를 모두 발광에 이용할 수 있기 때문에, 내부양자효율이 100%

이며, 외부양자효율이 약 20%로 형광OLED에 비해 이론적 효율이 4배나 크기 때문에 최근 각광받고 있다.

OLED는 발광방향에 따라 전면발광(Top Emission), 배면발광(Bottom Emission), 양면발광(Both Side

Emission) 방식으로 나뉜다. 배면발광방식은 발광층에서 생성된 빛이 기판방향으로 향하며, 단위 소자 및

수동구동방식에서 가장 일반적으로 채용되고 있다.

전면발광방식은 능동구동방식을 채용할 경우, TFT 및 capacitor, 배선 등이 차지하는 면적이 상당하여

개구율(Aperture Ratio: 픽셀 면적에 대한 실제 빛을 내는 부분의 면적비)이 작아지기 때문에, 빛을 기판의

반대 방향으로 향하게 하여 TFT 등 회로 및 배선부가 차지하는 면적에 대한 제한을 적게 하기 위하여 고안

되었다. 일본 Sony가 전면발광을 이용하여 13인치의 AMOLED 시제품을 제작하여 OLED을 이용한 대면

적 디스플레이의 가능성을 제시하였으며, 최근 소형 고해상도 디스플레이에 전면발광을 채용한 AMOLED

개발이 주로 이루어지고 있다.

양면발광방식은 휴대폰 등에서 메인창 및 서브창을 동시에 표시하기 위하여 개발되었으며, 다양한 분야에

응용될 것으로 예상되고 있다.

OLED는 산소와 수분에 매우 민감하여 공기 중에 노출될 경우 소자의 특성이 저하되고 수명이 단축됨으로

이를 방지하기 위한 봉지 공정이 필요하며, 이는 양산에 있어서 신뢰성을 확보하기 위하여 매우 중요하다.



디스플레이로서의 OLED는 1) 자발광 특성을 갖고 있기 때문에 백라이트 등의 보조광원이 불필요하며, 2)

시야각이 넓고, 3) 응답속도가 마이크로초 이하로 매우 빨라 동영상 구현에 적합하며, 4) 보조광원이 불필요

하기 때문에 아주 얇은 디스플레이 구현이 가능하고, 5) 구동전압이 낮기 때문에 구동회로 부분이 간단하며,

6) 동작온도 범위가 넓어 잠재 응용범위가 다양하고, 7) 플렉서블(Flexible) 기판을 사용할 수 있어 차세대

디스플레이인 플렉서블 디스플레이 등에도 대응이 가능한 장점을 가지고 있다.

도표 29




2) AMOLED의 특징과 구성

OLED는 구동방식에 따라 PMOLED(Passive Matrix OLED)와 AMOLED(Active Matrix OLED)로 나누

어진다. AMOLED는 각각의 화소마다 TFT 및 저장용량이 있어, OLED가 가지고 있는 자발광, 고속응답,

광시야각 및 박형의 특성에 부가하여 저소비전력 및 고해상도 디스플레이의 구현이 가능하며, 소면적에서부

터 대면적에 이르는 다양한 크기의 디스플레이 구현이 가능하고 고휘도의 디스플레이 구현이 가능하여 향후

TFT-LCD를 대체하거나 새로운 디스플레이시장을 창출할 수 있는 가장 유력한 차세대 디스플레이로 인식

되고 있다.

AMOLED는 1) 자발광으로 시야각에 제한이 없는 선명한 화질을 구현하며, 2) 고속응답이 가능하여 빠른

동영상구현이 가능하고, 3) 얇게 만들 수 있을 뿐만 아니라, 4) 모바일 디스플레이부터 향후 대형TV까지 전

응용제품에 적용 가능한 장점이 있다.

도표 30

PMOLED

AMOLED

- 저소비전력 디스플레이의 구현이 가능

- 고해상도 디스플레이 구현이 가능

- 고휘도의 디스플레이 구현이 가능

- 다양한 화면 크기의 디스플레이 구현이 가능

- 자발광 디스플레이

- 고속응답특성 : 완벽한 동영상 구현 가능

- 시야각이 넓음

- 박형으로 제조가 가능




AMOLED는 1) TFT 및 저장용량으로 구성된 backplane 부분과 2) 빛을 발광하는 OLED 부분, 3) TFT

backplane 및 OLED를 감싸는 봉지 부분으로 구성되어 있다.

AMOLED 생산을 위한 투자비 중에서 TFT backplane 투자비가 60~70% 이상으로 AMOLED 원가구성

에 있어서 가장 결정적인 부분이며, TFT backplane을 제조하는 기술이 OLED 재료와 더불어 AMOLED

대형화에 있어서 중요한 의미를 갖는다.

2009년 SMD가 소형 AMOLED의 대량 생산에 성공하면서 4.5세대 AMOLED 생산 기술은 표준화되었다.

ELA(Excimer Laser Annealing) 방식의 TFT공정, FMM(Fine Metal Mask) 방식의 유기물 증착 공정

(Evaporation), 그리고 유리기판을 이용한 봉지공정(Encapsulation)을 사용하고 있는 것이다.

도표 31

TFT backplane

OLED layer

Sealing & Scribing

Module Process

Substrate

Substrate

Substrate

R G B


도표 32

자료: 업계자료, 유진투자증권



3) AMOLED 제조공정 과정

AMOLED 디스플레이의 제조공정은 AMLCD와 비교할 때 유사하면서도 많은 차이를 보이고 있다.

AMOLED와 AMLCD 모두 유리 기판에 TFT를 구동소자로 사용하는 backplane을 가지고 있으나, TFT 제

조공정에서는 최소 2개 이상의 poly-Si TFT를 사용하는 AMOLED가 좀 더 복잡한 공정을 갖는다. 반면

이후 공정에서는 AMOLED가 LCD에 비하여 더 짧고 간단하게 구성된다. AMOLED는 LCD와 비교할 때

액정공정, 상하판 조립, BLU 조립 공정이 없어 상대적으로 단순하다는 장점을 가지고 있으나, 컬러필터가

아닌 유기물을 증착하여 화소를 만들어야 하는 특성을 가지고 있다.

도표 33

AMOLED TFT Array

AMLCD

Organic EL

Evaporation

(R,G,B)


D-IC

TFT Array


Assembly

C/F

Circuit &

D-IC


도표 34




AMOLED의 제조원가 및 투자에 가장 결정적인 영향을 미치는 TFT backplane은 a-Si TFT와 poly-Si

TFT(LTPS TFT), Oxide TFT backplane의 3가지로 구분된다.

a-Si TFT backplane은 제조가격이 낮고, 기존의 LCD 생산을 위한 라인에서 별도의 추가 공정없이

backplane 생산이 가능하며, 현재 가동되고 있는 8세대라인에서 제조가 가능한 장점이 있다. a-Si TFT

backplane을 이용하여 AMOLED를 생산할 경우, 소형에서 대형에 이르는 AMOLED를 TFT-LCD보다

저가로 생산할 수 있다. 하지만, 낮은 신뢰성으로 아직까지 a-Si TFT backplane을 AMOLED 생산에

이용하지 못하고 있다.

현재 AMOLED 생산 및 개발에 가장 많이 이용되고 있는 poly-Si TFT(LTPS TFT) backplane은 신뢰성

이 우수하고 TFT 특성이 우수한 장점이 있다. 하지만, 제조공정이 복잡하며 유리기판 크기가 4~5세대에

국한되어 있어 소형 AMOLED에 주로 적용되고 있다.

그래서, 최근 Oxide TFT가 대형 유리기판에 적용이 가능하고 제조원가가 뛰어날 뿐만 아니라, 전자와 정공

의 속도가 빨라 고해상도 구현에 절대적으로 유리해서 크게 주목을 받고 있으며 차세대 TFT 기술로 자리잡

을 것으로 예상된다. 하지만, 최신기술로 신뢰성 이슈가 아직 남아있다.

도표 35




AMOLED 패널의 전체 투자비 중에서 TFT 기판 제조부분이 60~70%를 차지하며, TFT 제조의 기술방식

에 따라 설비투자 규모가 크게 달라질 수 있다. 설비투자 규모의 차이를 가져오는 가장 큰 이유는 공정 수이

다. 일반적으로 사용하는 a-Si TFT의 마스크 공정수가 4~5회이며, 당사가 가장 주목하는 Oxide TFT

역시 4~5회인 반면, poly-Si TFT(LTPS TFT)의 마스크 공정수는 7~10회에 달하여 제조원가가 높다.

따라서, 8세대라인과 같은 대형라인에서는 원가구조를 고려했을 때, poly-Si TFT(LTPS TFT) 방식보다는

Oxide가 훨씬 더 유리하다. poly-Si TFT(LTPS TFT) 방식으로 대형라인 투자가 진행될 경우 대규모 신규

투자가 필요한 반면, Oxide TFT의 경우 기존 LCD라인에서 사용하고 있는 장비 대부분을 활용할 수 있어

설비투자 규모를 크게 줄일 수 있는 장점이 있다.

도표 36


–



따라서, 당사는 AMOLED의 제조원가 및 투자에 가장 결정적인 영향을 미치는 TFT backplane 기술을

종합적으로 검토해 볼 때, 앞서 언급한 것처럼 Oxide TFT가 대면적 디스플레이에서는 채택될 것으로 판단

한다. AMOLED산업이 기존의 TFT-LCD산업을 대체하기 위해서는 TV와 DID시장에서 주도권을 잡아야

하기 때문에 8세대라인 이상의 대면적 디스플레이 구현이 가능해야 한다. 결국, 패널업체들이 8세대

AMOLED라인을 본격적으로 투자하기 시작하는 2012년 이후에는 TFT backplane에서는 Oxide TFT가

핵심적 기술이 될 것으로 예상된다.

도표 37




AMOLED는 전류량에 따라 휘도가 결정되는 전류구동방식이기 때문에 구동 TFT안에 많은 전류가 흐른다.

따라서, a-Si TFT로는 충분한 전류를 흘려주기 어렵고 또한 많은 전류로 인하여 TFT 열화현상이 발생하게

된다.

그래서, 현재는 poly-Si TFT가 상용화되고 있다. Poly-Si TFT를 만들기 위한 방법은 레이저 또는 열처리

를 하는 등 다양한 방법이 존재하지만, 현재 양산에서는 Eximer laser를 이용한 결정화 방법이 주로 사용되

고 있다. 레이저를 이용한 결정화 공정인 ELA(Eximer Laser Annealling) 방식은 소자의 불균일성으로

공정 수율이 매우 낮은 단점이 있다. ELA공정으로 만들어진 poly-Si은 다양한 크기와 위치를 갖는 grain

을 형성하므로 TFT의 특성은 각기 다른 특성을 갖게 된다. 이를 보상하기 위해서는 결정화 방식의 개선과

보상회로가 사용된다. 하지만, 균일도 보상회로 방식은 TFT의 개수가 많아 개구율이 작아질 뿐 아니라,

제조과정에서 생길 수 있는 TFT의 불량 가능성이 더욱 높다. 이러한 불균일성은 레이저 결정화에 의한

poly-Si TFT에서 가장 심하게 나타난다.

도표 38


도표 39

ELA A-SPC SGS IGZO(Oxide)

공정 저온 laser 이용 결정화 급속고온(600°C) 열처리 결정화

이동성 100㎠/Vs 10~20㎠/Vs 10~40㎠/Vs 10㎠/Vs 이상

균일도 낮음 높음 높음 높음

안전성 매우 높음 높음 높음 높음

Mask 사용 개수 7~10 4~5 4~5 4~5

공정온도 저온 고온 고온 저온

비용 높음 낮음 낮음 낮음

공정 복잡성 높음 낮음 낮음 낮음

대형화 5.5G 이하 6G 이하 8G 이상 8G 이상




AMOLED 패널이 poly-Si TFT 기판을 필요로 하는 이유는 '높은 전하 이동속도(carrier mobility)'와 '낮은

문턱전압(threshold voltage, vth)'의 특성을 가장 잘 구현할 수 있기 때문이며, 다양한 poly-Si TFT 결정

화 공정 중에서, ELA(Eximer Laser Annealling) 방식이 가장 뛰어나다.

다만, 5.5세대가 넘는 대면적 유리기판에는 아직 적용된 바가 없고, 공정 수가 많아 설비투자 비용이 지나치

게 높아져 원가 부담이 Oxide TFT와 a-Si TFT 대비 높다는 단점을 가지고 있다.

도표 40

특성값


100㎠/Vs 낮음 매우 높음 7~10 저온 높음 높음 ~5.5G 자료: Displaybank, 업계자료, 유진투자증권



SGS(Super Grain Silicon)방식은 ELA방식과 달리 laser를 사용하지 않고 전체 유리기판을 높은 열처리를

통해 poly-Si TFT를 형성하며, a-Si 기판에 극소량의 금속촉매를 도포한 후 열처리를 통해 poly-Si을

형성하는 기술이다. ELA대비 공정이 단순하고 대면적 기판 처리에 유리한 점이 있지만, 높은 열에서 기판

을 가공해야 한다는 단점과 공정 처리 속도(열처리 공정 1시간 소요)가 매우 느리다는 단점을 가지고 있다.

ELA방식으로 형성된 TFT소자 대비 전기적 특성값은 떨어지지만, 대형 AMOLED 패널을 구동하는 데에는

문제가 없기 때문에 8세대 AMOLED TFT기판 제조 방식으로 검토되고 있는 것이다.

도표 41

특성값


10~40㎠/Vs 높음 높음 4~5 고온 낮음 낮음 >8G




Oxide TFT(InGaZnO) 기술은 전기적 특성면에서는 ELA방식이나 SGS 방식대비 떨어지지만, 대형화에

유리하고 설비투자를 최소화할 수 있다는 장점이 있다. ELA 방식대비 Oxide TFT의 경우 공정수가 절반

수준이어서 원가경쟁력이 높고, 기존 TFT 공정에 사용되는 장비의 활용도가 매우 높고 신규 설비투자 규모

를 최소화할 수 있다. 그래서, 삼성전자나 LG디스플레이 모두 적극적으로 검토하고 있으며, 당사는 Oxide

TFT가 TFT backplane의 핵심적 공정기술로 자리잡을 것으로 판단한다.

도표 42

특성값


9㎠/Vs 높음 높음 4~5 저온 낮음 낮음 >8G 자료: Displaybank, 업계자료, 유진투자증권

도표 43

LTPS TFT

LASER SPC

ELA TB-SLS MIC-SGS

OXIDE TFT

Overlap 90% scan Overlap under 50% scan Fast Silicide crystallization Additional process for MO

Grain Size : 0.1 ~ 0.5um Grain Size : 0~ um Low Temp process : <550℃ Mobility : 1 ~ 20㎠/Vs

Mobility : 60~80㎠/Vs Mobility : 80~120㎠/Vs Mobility : ~ 50㎠/Vs

Regular Grain

Line Mura - Non uniformity Depend on direction of crystallization

Design rule Good performance

Need to compensate circuit Regular grain Moira mura Limit of device characteristics

Need to modify process Metal pollution

Need to compensate circuit Bad local uniformity

Device Stability :

Vth Shift by UV irradiation

Done the verification of

Mass Production Don't verification of Mass product




AMOLED 패널 제조공정과정에서 TFT backplane에 TFT 회로를 만들고 나면, 그 다음 핵심적 공정이

바로 유기물 증착 공정이다. 현재 사용하고 있는 유기물 증착 기술은 FMM(Fine Metal Mask) 방식이며,

이는 유기물에 열을 가해 기체화시켜 기판 위에 증착하는 방식이다. FMM 방식은 현재 양산에 적용되고 있

어 기술적으로도 검증이 되어 있고, 이를 위한 재료 및 장비의 개발도 상당한 완성도를 보이고 있다. 그러나

FMM 방식은 대면적, 고해상도 구현에 있어서 치명적인 문제점을 가지고 있으며, 고가의 장비를 사용하기

때문에 원가절감이 어렵다. FMM 방식은 진공에서 증착시 FMM을 이용하여 특정 영역에만 유기물을 증착

하는 방식이 주로 이루어지며, RGB 각 픽셀의 형성은 FMM을 사용하여 색상별로 증착하기 때문에, 마스크

의 정밀도와 마스크와 기판 사이의 정렬(alignment)이 중요하다.

FMM방식에서 가장 앞서 있는 기술을 보유하고 있는 SMD는 일본의 Hitachi社와 5.5세대용 증착장비를

개발 중이지만, 5.5세대 2단계까지는 원판유리를 4분할하여 기존의 3.5세대 증착장비를 활용할 것이다.

증착장비의 대형화가 매우 어렵기 때문에, 증착장비의 3단계 투자가 진행되는 2H11에서나 5.5세대 증착

장비가 양산라인에 적용될 수 있을 것으로 전망된다.

도표 44

세정표면처리

공통증(HIL, HTL) Red

GreenBlue

Cathode




진공 증착으로 유기물과 금속을 증착하는 방법은, 메탈 마스크의 종류에 따라 FMM을 사용하는 공정과

공통마스크를 사용하는 공정으로 나눌 수 있다. FMM은 화소를 형성할 때 사용하며, 공통마스크는 따로

패턴이 필요하지 않은 공통층, HIL, HTL, ETL, cathode를 형성할 때 사용한다. 공통 마스크는 미세 패턴

이 없기 때문에 상대적으로 대면적화에는 큰 어려움이 없으나, FMM의 경우에는 대면적화에 큰 어려움이

있다.

도표 45

15~30um Glass

Shadow mask




메탈마스크는 SUS 등의 금속을 이용하여 만들며 화소 크기를 구현하기 위하여 15~30um의 얇은 금속막에

수십 um정도의 매우 정교한 화소 패턴이 뚫려진 형태로 되어 있다. 아래쪽의 유기물 또는 금속 소스에서

증발된 물질들은 mask를 통과한 부분에만 증착하게 된다. 이 방식은 현재 양산에 적용되고 있는 방식이지

만 여러 문제점을 가지고 있다. 먼저 고해상도의 디스플레이 화면을 제작하기 위해서는 화소 크기와 화소

간의 간격이 작아져야 하지만, FMM의 최소 두께에 의하여 화소 크기가 제한을 받게 된다. 둘째, 증발원을

사용하여 증착하다 보니 유리 기판과 마스크가 위쪽에 놓이고 소스가 아래쪽에 위치하게 되는데, 유리와 마

스크가 얇고 넓은 면적을 갖기 때문에 마스크 휨 문제가 발생하게 된다. 유리와 마스크 휨 문제는 기판 크기

가 커질수록 증가하며, 이로 인해 스크래치 등의 불량이나 화소가 정확히 구현되지 않는 단점이 발생하게

된다. FMM방식이 5.5세대라인에서 당분간 사용되겠지만, 8세대에서는 마스크 휨 문제를 해결해야 하고,

증착시 유기재료로 소모량이 많아지기 때문에 FMM방식이 그대로 적용되기는 어려울 것이다.

도표 46

R G B

Mask

Source

Substrate Substrate Substrate Substrate Substrate




SMS 방식은 유리기판 크기보다 작은 마스크를 여러 번 이동시키면서 유기물질을 증착하는 방법이다. SMS

방식은 기존 FMM방식의 대형 마스크 휨 문제를 해결할 수 있다는 점에서 8세대라인에 적용될 수 있을 것

이다. 하지만, 기판을 이동시키면서 유기물질을 정밀하게 증착시켜야 한다는 공정상의 어려움이 있어 수율

확보가 쉽지 않다는 단점이 있다.

도표 47

특성값

유기재료 증착정밀도 해상도 적용세대 장점 단점

저분자 ±15nm <240ppi >6G 대형화 가능,

공정시간 단축

기존 FMM방식에 추가장비 필요

8G 이상에 대한 의문




삼성이 8세대 pilot라인에서 검토하고 있는 또 다른 증착방식은 LITI(Laser Induced Thermal Imaging)

방식이다. LITI 방식은 고분자 필름이나 유리기판 등에 이미 성막시켜 놓은 유기막을 레이저를 통해 원하는

기판 위에 전사시키는 방법으로 높은 정밀도를 갖는 장점이 있다.

LITI 방식은 FMM을 사용하지 않고, 사용하는 레이저 빔의 직경을 작게 하면 아주 작은 화소 패턴 형성이

가능하므로 고해상도의 디스플레이 구현이 가능하다는 점 때문에 크게 주목받고 있다. LITI방식은 폴리에스

터와 같은 고분자 필름에 유기물을 진공증착 또는 스핀 코팅 방식에 의해 코팅한 도너 필름을 제작하고 이

를 레이저를 사용하여 전사시킨다. 이 때 도너 필름에서 유기물이 잘 떨어지도록 하기 위하여 빛열변환층을

코팅하며, 사용되는 레이저는 YAG 레이저가 주로 사용된다.

도표 48




하지만, 유기물을 모기판으로 코팅하고 다시 TFT 어레이 기판으로 옮기므로 유기물의 효율과 수명이 저하

되는 단점이 있고, 고분자 유기물질의 개발이 병행되어야 한다는 문제점도 가지고 있다. 그리고 공정이

복잡하고 많아져 안정적인 수율 확보에도 어려움이 있다.

도표 49

특성값

유기재료 증착정밀도 해상도 적용세대 장점 단점

고분자 ±2.5nm >300ppi >6G 대형화 용이,

증착정밀도 향상

고분자 재료의 효율 및

수명 문제




최근 LG디스플레이가 경쟁업체인 SMD에 비해 AMOLED산업 경쟁에서 뒤처지면서, AMOLED-TV시장

에서는 공격적으로 선점하기 위해서 적극적으로 검토하면서 부각되고 있는 방식이 바로 White OLED 방식

이다. White OLED는 색변환 방식(CCM; Color Change Media) 중의 하나이며, 색변환 방식은 청색을

이용하는 방법과 백색을 이용하는 방법이 있다.

청색을 이용하여 적색과 녹색을 구현하는 색변환 방식은 청색의 낮은 효율과 수명으로 인하여 일반적으로

연구가 진행되고 있지 않으며, 가장 대표적인 색변환 방식이 LCD와 유사하게 color filter를 적용하는 방식

인 White OLED 방식이다. LCD에서는 BLU로부터 나온 빛을 적녹청의 filter를 통과시켜 색을 분리해

내고 각각의 세기는 액정으로부터 제어하는 방법을 사용하며, OLED에서는 BLU 대신 White OLED를

쓰고 color filter는 그대로 사용하는 방식이다.

도표 50




LG디스플레이가 의욕적으로 제안하고 있는 White OLED 방식은 BLU와는 달리 OLED소자가 각각 개별

구동을 하기 때문에 액정 부분이 빠질 수 있어 단순화된 구조를 얻을 수 있는 장점이 있다. 또한 적녹청의

화소를 각각 형성하지 않아도 되기 때문에 FMM을 사용하지 않으며, Color filter 기술은 이미 완성도가

높은 기술로 거의 불량이 없고, 대면적, 고해상도 구현도 용이하다는 장점이 있다.

그러나, 색감에 있어 OLED의 장점을 잘 살리지 못한다는 단점이 있으며, LCD에 사용하는 컬러필터보다

고가의 컬러필터를 채용해야 하기 때문에 원가가 상승하고, color filter를 TFT 위에 바로 올리는 공정상의

어려움이 있다. 그리고 빛의 투과율이 낮아 효율이 떨어져 높은 소비전력을 보이고, White 수명향상 및

효율 개선이 시급이 이루어져야 할 필요성이 있다.

도표 51

B G R

OLED

C/F




최근 유기물을 용액화시켜 화소를 인쇄시키는 방법에 대해서도 많은 연구가 이루어지고 있다. 대부분의

인쇄공정은 신문이나 대형 인쇄물에서 보듯이 대면적에 비교적 높은 정밀도를 가지고 다양한 색을 혼합하여

구현할 수 있기 때문에, 인쇄공정을 디스플레이에 응용하는 기술에 대한 연구가 활발하게 진행되고 있다.

가장 기대를 많이 받고 있는 방식은 잉크젯 프린팅(Inkjet Printing) 방식이다. 잉크젯은 그 특성상 원하는

부분에 잉크를 직접 인쇄하는 것이 가능하다. 잉크는 발광 또는 전하 수송의 특성을 갖는 유기물을 유기

용매에 녹인 용액을 이용하여 제작하며 디스플레이에 특화된 헤드를 사용하여 인쇄 공정을 진행한다. 잉크젯

프린팅 방식은 원하는 부분에만 재료를 형성시킬 수 있기 때문에 재료의 이용 효율이 높은 장점이 있으며

대형화에 용이하다. 또한 잉크젯 프린터는 포토마스크나 FMM 같은 물리적인 마스크가 아니라 인쇄될 위치

에 대한 도면만 있으면, 작업이 가능하여 비용절감이 가능하고 다품종 제작에 매우 유리하다.

도표 52

Nozzle

DropletStandoff

Pixel Width




잉크젯으로 공정을 하기 위해서는 디스플레이가 고해상도와 정교한 패턴 형성을 요하기 때문에, 정확한

잉크 방울의 크기 조절, 정확한 위치의 조절, 잉크젯 프린팅에 의해 형성된 막의 두께 및 모양 균일도 등이

중요하다. 잉크 방울의 크기는 형성되는 막의 두께에 영향을 미친다. OLED의 경우 두께에 따라 구동전압,

효율, 빛의 밝기 등이 달라지므로 잉크 방울의 크기는 특히 중요하다.

많은 관심과 연구가 이루어지고 있음에도 불구하고, 잉크젯 방법은 아직까지는 공정 제어가 어렵고, 다층

구조의 소자 제작이 어려우며, 우수한 소재가 개발되지 않아 상용화 적용까지는 상당한 시간이 걸릴 것으로

예상되고 있다.

도표 53

ITO patterning & Cleaning Red layer 형성

Bank 형성/ 표면처리 Green layer 형성

Buffer layer 형성 전극증착

Nozzle




용액을 이용한 공정 중에서 가장 최근에 주목을 받는 방식은 Roll printer를 이용한 방식이다. 용액 재료의

공급과 전사 방식에 따라 그라비아, 옵셋 등 다양한 방법이 있을 수 있으며, 이러한 방식은 대부분 인쇄용

장비로부터 차용하여 온 것이다. R2R 방식이 플렉서블 디스플레이에서 채용될 것으로 전망되고 있지만,

R2R 방식으로 기판 이송시 어떤 방식으로 패턴을 만들어 낼 것인가에 대한 명확한 해결책이 제시되지 못한

채 여전히 다양한 방법이 논의되고 있다. 현재 이 방법은 정밀한 화소를 형성하기에는 재료나 Roll 가공기술,

공정 기술 등이 부족하여 디스플레이보다는 OLED조명 쪽에서 먼저 적용될 수 있을 것으로 예상된다.

도표 54

자료: 전자부품연구원, VTT, 유진투자증권

도표 55

R,G,B Patterning

RGB FMM Laser Pattern Solution Printing Printing 구분

(Fine Metal Mask) (LITI/LIPS) (Ink jet/Nozzle) (Gravure off set)

WOLED

(white + C/F)

Method

Material Small Molecule Small Molecule Polymer

Small Molecule

Polymer

Small Molecule Small Molecule

Device Performance ◎ △ △ X ○

Pattern Accuracy ±15㎛ ±2.5㎛ ±20㎛ ±3㎛ ±2.5㎛

Development Level ◎ △ △ △ ○

Equipment Cost △ ○ ○ ◎ ○

Large Area ○ △ ○ ◎ ○




AMOLED 패널에 사용되는 유기재료는 공기 중의 산소 및 수분에 노출될 경우 재료의 수명이 급격히 단축

되기 때문에 유기재료와 외부의 접촉을 막기 위한 봉지(Encapsulation)공정이 필수적이다. 현재 적용되고

있는 봉지기술은 봉지기판에 흡습제를 부착하고 접착제를 이용, TFT 기판에 접착시키는 흡습제 방식이다.

현재 소형 AMOLED를 양산하고 있는 SMD 4.5세대라인과 2Q11부터 양산체제를 갖추는 5.5세대 P1라인

은 이러한 흡습제 방식을 적용하고 봉지기판으로는 유리기판을 사용하고 있다.

하지만, 봉지 면적이 증가함에 따라 산소 및 수분에 대한 노출 민감도가 높아지고, 외부충격에 취약한 유리

기판의 특성 때문에 유리기판 흡습제 방식은 대형 AMOLED에는 적합하지 않는 것으로 판단된다. 유리기판

흡습제 방식의 이와 같은 약점을 보완하기 위해 현재 봉지기판과 TFT 기판 사이에 유기물을 충진시키는

충진 봉지방식, 레이저로 용융시킨 유리원료(frit)를 이용하여 접착시키는 Frit 봉지방식, 다층의 유기-무기

복합막으로 소자를 외부로부터 보호하는 Film 봉지방식 등이 개발 중이다. 향후 사이즈의 대형화와 플렉서

블 AMOLED, 투명 AMOLED 생산이 본격화될 경우, Film 봉지방식 등이 채택될 것으로 예상된다.

도표 56


도표 57 도표 58

자료: Displaysearch, 유진투자증권 자료: Displaysearch, 유진투자증권



이상과 같이 AMOLED공정의 다양한 기술들을 살펴 보았다. 패널업체들은 AMOLED산업 주도권을 놓고

다양한 공정기술 경쟁을 펼치고 있다. 5.5세대라인을 처음으로 상용화하여 가장 공격적으로 투자하고 있는

SMD는 5.5세대에서 poly-Si TFT를 양산하는 기술인 ELA 방식을 적용하고 있지만, 대면적 디스플레이

시장 진출을 위해서는 향후 8세대라인에서는 Oxide TFT를 채택할 것이며, 유기물 증착에서 FMM이 아닌

LITI 방식으로 진행될 가능성이 높다고 판단된다.

한편, LTPS에 있어 매우 우수한 기술력을 확보하고 있는 LG디스플레이 역시 Oxide TFT를 적용할 것이며,

유기물 증착 공정에서는 투자비 절감과 원가경쟁력 확보를 위해 White OLED 방식을 적극적으로 검토하고

있다.

도표 59




4) AMOLED산업의 특성

AMOLED산업을 제대로 이해하기 위해서, 당사는 AMOLED가 LCD와 경쟁하는 차세대 디스플레이라는

점을 가장 먼저 언급하고 싶다. 디스플레이산업에서 가장 중요한 것은, '자금력'과 '고객기반'이며, AMOLED

산업 역시 자금력과 고객기반이 무엇보다 중요하다. 일본 Sharp와 대만업체들이 AMOLED가 차세대 디스

플레이라는 점을 인정하면서도 공격적으로 들어오기 힘든 것은 이러한 점 때문인 것으로 판단된다. LG디스

플레이가 White OLED를 찾는 것도 이러한 점과 일맥상통한다고 볼 수 있다. LG디스플레이는 경쟁업체인

삼성전자대비 고객기반이 약하고 자금력이 약한 상황에서 합리적인 투자를 통해 AMOLED-TV시장을 선도

적으로 나서기 위해 최선의 선택을 찾고 있는 것이다.

이렇게 볼 때, 삼성전자와 LG디스플레이가 차세대 디스플레이인 AMOLED산업을 전개함에 있어 향후

최대의 경쟁자는 중국업체로 판단된다. 중국 패널업체들은 중국이라는 세계 최대의 고객기반을 가지고 있으

며, 세계 최대 부를 축적하고 있는 중국정부를 등에 엎고 AMOLED산업에 공격적으로 나설 가능성이 높다.

단지, 지금은 AMOLED산업이 성장 초기국면이고 5.5세대와 8세대라인의 공정방식이 표준화되어 있지

않기 때문에, 중국 패널업체들이 적극적으로 나서지 못하고 있는 것이다. 그 대신, LCD 8세대라인 설립을

통해 공정기술 축적에 당분간 집중할 것으로 예상된다.

둘째, AMOLED와 LCD의 차이점은 바로 패널 구조의 차이에서 알 수 있다. 패널 구조의 차이가 원가구조

의 차이를 가져오고 있는데, AMOLED는 LCD패널대비 재료비 비중이 낮고 감가상각비 비중이 높아,

DRAM과 비슷한 원가구조를 가지고 있다. AMOLED는 LCD와 달리 부품산업이 아니며, 패널업체가 제조

공정상의 혁신을 통해 능동적으로 원가를 크게 개선시킬 수 있다는 것이다.

반면, TFT-LCD 패널에서 부품이 차지하는 비중은 60~67%에 달하며 부품산업의 성격을 가지고 있어,

사실 부품단가인하와 핵심부품/재료의 개선 등에 의존할 수 밖에 없는 상황이다. 따라서, AMOLED산업은

향후 패널업체들이 혁신적인 공정 개선을 통해 원가를 추가적으로 개선할 여지가 많으며, 8세대 이상의

공정이 정착하게 되면 LCD패널대비 우수한 원가경쟁력을 확보할 것으로 판단된다.

도표 60




셋째, AMOLED 제조공정과정은 LCD에 비해 상대적으로 단순하다. 이러한 단순한 제조공정상의 특성

때문에, 장비업체가 주도권을 장악할 가능성이 높다. AMOLED 3.5세대라인까지 일본의 Tokki社와

Hitachi社가 일괄수주방식으로 장비산업에서의 헤게모니를 강화시켜 왔다. 따라서, 삼성전자와 LG디스플레

이는 5.5세대와 8세대라인을 가동하기 앞서, 장비 국산화가 무엇보다 시급하다고 판단된다.

핵심공정에 대한 장비 국산화가 제대로 이루어질 경우, 해외경쟁업체들이 AMOLED 대형시장에 진입하는

시점이 상당히 걸릴 수 있을 것이다. 그러나, 핵심공정장비를 일본업체들에 계속 의존할 경우, 삼성전자와

LG디스플레이가 공정표준화에 많은 투자를 하고, 그 노력의 결과물들을 일본 장비업체들이 중국이나 대만

패널업체들에게 판매할 가능성이 매우 높다. 따라서, 당사는 삼성전자와 LG디스플레이가 핵심공정에 대한

국산화를 가속시킬 수 밖에 없으며, 에스에프에이와 AP시스템, 원익IPS, 아바코, 주성엔지니어링, 테스 등

이 수혜를 볼 것으로 예상한다.

AMOLED산업이 점진적으로 성장하는 국면에서는 재료업체들에 대해 관심이 확대될 것이다. 대면적이

본격화되면, 사용되는 재료 사용량이 기하급수적으로 증가하기 때문이다. 그래서 중장기적으로 제일모직과

덕산하이메탈 등과 같은 재료업체들이 가장 큰 수혜를 받으며 성장할 전망이다.

도표 61

AMOLED TFT Array

AMLCD

Organic EL

Evaporation

(R,G,B)


D-IC

TFT Array


Assembly

C/F

Circuit &

D-IC




5) AMOLED시장 전망

AMOLED시장은 2009년 휴대폰에 채용되면서 빠르게 성장하고 있으며, 2012년 이후부터는 AMOLED-

TV를 중심으로 큰 폭으로 성장할 것으로 예상된다. 2010년 세계 AMOLED시장은 11.9억US달러였으며,

2011년에는 260.1%yoy 증가한 42.8억US달러, 2012년에는 76.7%yoy 증가한 65.6억US달러에 달할 것

으로 전망된다.

그리고, 2010년 AMOLED 출하량은 4,542만대였으며, 이 중 대부분이 휴대폰에 적용되었다. 2011년

AMOLED 출하량은 193.1%yoy 증가한 1.33억대에 이를 것이며, 2012년 이후부터는 AMOLED-TV가

출시되면서 성장을 견인하여 72.9%yoy 증가한 2.30억대에 달할 것으로 예상된다.

도표 62 도표 63

0

2,000

4,000

6,000

8,000

10,000

12,000

14,000

16,000

18,000

2008

2009

2010

2011F

2012F

2013F

2014F

2015F

2016F

2017F

(US$mn)

0

50

100

150

200

250

300

(yoy,%)AMOLED 매출액

증가율(우)

0

100,000

200,000

300,000

400,000

500,000

600,000

2008

2009

2010

2011F

2012F

2013F

2014F

2015F

2016F

2017F

(천대)

0

50

100

150

200

250

(yoy,%)AMOLED 출하량

증가율(우)

자료: Displaysearch, 유진투자증권 자료: Displaysearch, 유진투자증권

AMOLED 대형라인이 본격적으로 가동되면서, AMOLED 재료시장의 높은 성장성이 주목받고 있다. 2010

년 AMOLED 재료시장이 1.5억US달러였지만, 2015년에는 25억US달러에 이를 것으로 예상된다. 성장

초기국면이어서 AMOLED 재료가격이 비싸고, Dow Chem과 Idemitsu Kosan, Hodogaya 등의 해외업체

들이 시장주도권을 장악하고 있지만, 덕산하이메탈과 LG화학 등이 시장에 진출해서 경쟁하고 있으며, 중장

기적으로는 제일모직이 AMOLED시장에서 두각을 나타낼 것으로 예상된다.

색상을 구현하는 R/G/B 유기물질의 수명문제가 아직 해결되어야 할 부분으로 남아 있다. 특히, 청색(Blue)

의 밝기와 수명 문제 등이 해결되어야 할 과제이며, 지금은 Dow Chem과 UDC가 시장을 장악하고 있어

국산화의 필요성이 크게 부각되고 있다.



II. AMOLED산업 성장의 수혜업체

1. Oxide TFT를 적용한 AMOLED 디스플레이 성장의 수혜업체

1) Oxide TFT를 적용한 backplane 기술 변화에 따른 수혜업체

당사는 디스플레이산업의 새로운 성장기를 이끌 차세대 디스플레이로 Oxide TFT를 적용한 AMOLED 디스

플레이를 가장 먼저 손꼽고 싶다. 아마도 2012년 삼성전자가 AMOLED-TV가 본격적으로 출시할 때,

세상이 꿈꾸고 있는 환상적인 디스플레이를 경험하게 될지 모른다. Oxide TFT를 적용한 AMOLED 디스플

레이가 구현하는 미래 디스플레이의 황홀함을!

Oxide TFT를 적용한 디스플레이가 구현되게 되면, 최대 수혜업체는 당연히 Oxide를 만드는 재료업체일 것

이다. 지금은 삼성코닝과 일본의 JX Nikko, Mitsui금속과 같은 소수업체들이 TCO(Transparent

Conducting Oxide) 타겟시장을 과점하고 있다. Oxide TFT 시장이 성장하게 되면 국산화가 가속될 것이며,

국내업체 중에서는 나노신소재(121600.KQ, BUY, TP 22,000원/Analyst 최순호/변준호)가 기술적으로

상당히 높은 위치에 있는 것으로 판단된다.

도표 64 도표 65

0

500

1,000

1,500

2,000

2,500

2008A 2009A 2010F 2011F 2012F 2013F

(톤)

'08~'13

CAGR 16%

자료: 나노신소재, 유진투자증권 자료: 나노신소재, 유진투자증권

–



그리고, Oxide물질을 패널에 부착하기 위해 스퍼터장비가 중요하게 부각될 것이다. Oxide TFT가

backplane공정에 적용되면, 기존의 PE-CVD장비는 소폭 줄어들고, 스퍼터장비가 증가하는 것으로 알려져

있다. 국내의 대표적인 스퍼터장비업체인 아바코(083930.KQ, BUY, TP 20,000원)와 에스에프에이

(056190.KQ, BUY, TP 80,000원)가 Oxide TFT시장 성장의 대표적인 수혜업체로 전망된다.

도표 66

자료: 아바코, 유진투자증권

또한 Oxide TFT 디스플레이가 구현되면, 투명디스플레이와 플렉서블 디스플레이가 실현된다. 따라서, 당사

는 투명디스플레이/플렉서블 디스플레이가 구현되면, 디스플레이 시장영역이 DID시장으로 접목되어 크게

확대될 수 있을 것이며, 플라스틱기판 업체가 중장기적으로 유리기판을 대신하며 '미래의 코닝'으로 성장하

게 될 것으로 예상한다. 현재 국책과제로 투명 플라스틱기판 국산화 과제를 하고 있는 업체가 바로 제일모

직(001300.KS, BUY, TP 150,000원)이다. 제일모직은 향후 차세대 디스플레이 AMOLED 재료뿐만 아니

라 중장기적으로 투명 플라스틱 기판사업을 통해 크게 성장할 것으로 전망된다.



도표 67 도표 68

0

2,000

4,000

6,000

8,000

10,000

12,000

14,000

16,000

2010 2015 2018 2021

(십억원)

자료: 제일모직, 유진투자증권 자료: 지식경제부, 유진투자증권

Oxide TFT를 적용한 AMOLED 디스플레이는 향후 디스플레이시장 성장을 크게 주도할 것이며, 특히

AMOLED산업이 한국업체들을 중심으로 성장하기 때문에 관련된 장비업체와 재료업체들에 대해서는 중장

기적으로 크게 주목해야 할 것이다. 앞으로 수 년 뒤 AMOLED시장에서는 한국과 중국업체간 경쟁이 본격

적으로 진행될 것으로 예상한다. 그 때, 중국 패널업체들에게 장비와 재료를 판매할 업체들은 일본업체가

아니라 바로 한국업체일 것이며, 한국의 장비/재료업체가 중장기적으로 크게 도약할 것으로 판단된다.

도표 69

기업명 제품 투자의견 목표주가

제일모직 투명플라스틱기판 BUY 150,000원

에스에프에이 스퍼터장비 BUY 80,000원

아바코 스퍼터장비 BUY 20,000원

나노신소재 Oxide 타겟, ITO 타겟 BUY 22,000원 자료: 유진투자증권



2) AMOLED산업 성장의 수혜업체

AMOLED산업 성장 초기국면에서는 장비업체가 가장 큰 수혜를 받을 것이다. 특히, 앞에서도 언급했듯이,

AMOLED산업은 제조공정의 특성상 장비업체들의 중요성이 성장 초기국면에서 크게 부각될 것이며, 국산

화가 빠르게 가속될 것이다. 당사는 에스에프에이(056190.KQ, BUY, TP 80,000원)와 AP시스템, 아바코

(083930.KQ, BUY, TP 20,000원), 주성엔지니어링, 원익IPS, 테스, 탑엔지니어링 등을 수혜업체로 추천

한다.

도표 70

Items Makers Trends

Laser Crystallization AP시스템 G4 and G5.5 PO

Evaporation 에스에프에이 Developing Vertical evaporator

SNU Developing Vertical evaporator

주성엔지니어링 Developing Horizontal evaporator

Encapsulation 선익시스템 Developed Encapsulator, Pilot equipment PO

아바코 Developed Encapsulator

에스에프에이 Developed Encapsulator

Inspection NCB 네트웍스 G4 inspector PO, Developing G5.5 inspector

탑엔지니어링 Developing AMOLED Array inspector


성장국면에서는 재료업체를 주목해야 할 것이다. 당사는 5.5세대가 본격적으로 가동되는 2Q11 이후부터는

재료업체들의 실적 개선이 두드러질 것으로 예상한다. 향후 수혜를 크게 보게 될 대표적인 AMOLED재료

업체로 제일모직(001300.KS, BUY, TP 150,000원)과 덕산하이메탈(077360.KQ, BUY, TP 30,000원),

대주전자재료 등을 선정한다.

도표 71


–

–



기업분석

LG디스플레이(034220.KS)

HOLD(유지) / TP 40,000원(유지)

새로운 도약을 준비해야 하는 시기!!


BUY(유지) / TP 150,000원(유지)

세계적인 전자재료업체로 도약!



세계적인 전공정 장비업체로 도약!!


BUY(신규) / TP 30,000원(신규)

AMOLED산업에서의 핵심적 재료업체!!



반도체/디스플레이의 핵심적 전자재료업체!!

아바코(083930.KQ)

BUY(신규) / TP 20,000원(신규)

AMOLED 핵심공정장비업체로 성장!



차세대 디스플레이 전극소재 채택을 꿈꾸다!



LG디스플레이(034220.KS)

반도체/디스플레이 담당 이정 Tel. 368-6124 / [email protected]

반도체/디스플레이 담당 곽민정 Tel. 368-6027 / [email protected]

새로운 도약을 준비해야 할 시기!!

목표주가 ‘40,000원’ 및 투자의견 ‘HOLD’ 유지

당사는 세계적인 TFT-LCD업체인 'LG디스플레이'에 대해 목표주가 '40,000원과 투자

의견 'HOLD'를 유지한다. 목표주가 '40,000원'은 2011년 및 2012년 예상EPS대비 각각

19.6배, 23.7배이며, 이는 현 주가대비 6.1%의 상승여력이 있어 투자의견 'HOLD'를 유지

한다.

LCD-TV시장의 성숙단계 진입, 구조적인 공급과잉 확대, 업체들의 수익성 악화 등

에 주목 보수적인 투자전략 권고

당사는 1) LCD-TV시장의 성숙단계 진입과 2) 2011년 이후 구조적인 공급과잉 국면

확대, 3) 떨어지고 있는 패널업체들의 수익성, 4) 예상보다 약한 2011년 패널가격 및 패널

가격증가율(yoy) 모멘텀 등으로 동사에 대해 중장기적으로 보수적인 의견을 제시한다.

특히, 동사는 TFT-LCD산업의 성장을 주도하였지만, 차세대 디스플레이인 AMOLED

산업에서 'Market Leadership'을 지속적으로 유지할 수 있을지에 대해 확인할 필요가 있

을 것이다.

2011 매출액 및 영업이익 각각 0.4%yoy, 45.1%yoy 감소 예상

LG디스플레이의 2011년 실적은 신규CAPA 증설효과와 FPR 비중 증가, 업황 개선에

따른 패널가격 반등 등에도 불구하고, 예상보다 낮은 패널가격 상승폭과 2H11 약한 수요

회복 등으로 부진할 것으로 판단된다. 2011년 매출액 및 영업이익은 각각 0.4%yoy,

45.1%yoy 감소한 25.42조원, 7,198억원에 그칠 것으로 예상된다.

Financial Data (IFRS연결기준) 결산기(12월) 2009A 2010A 2011F 2012F 2013F

매출액(십억원) 20,613.6 25,511.5 25,418.4 27,325.0 27,397.1

영업이익(십억원) 1,067.2 1,310.5 719.8 667.2 847.5

세전계속사업손익(십억원) 944.3 1,265.6 793.6 725.0 913.9

당기순이익(십억원) 1,083.7 1,159.2 730.9 604.3 760.6

EPS(원) 2,969 3,232 2,043 1,689 2,126

증감률(%) -2.2 8.8 -36.8 -17.3 25.9

PER(배) 13.2 12.3 18.5 22.3 17.7

ROE(%) 11.2 11.0 6.5 5.1 6.2

PBR(배) 1.4 1.4 1.2 1.2 1.2

EV/EBITDA(배) 3.7 3.4 3.9 3.8 3.6


HOLD(유지)

현재주가(5/20) 37,700원

목표주가(12M, 유지) 40,000원 Key Data (기준일: 2011. 5. 20)

KOSPI(pt) 2,111.5

KOSDAQ(pt) 486.2

액면가(원) 5,000

시가총액(십억원) 13,489.7

52주 최고/최저(원) 45,300 / 33,250

52주 일간 Beta 1.01

발행주식수(천주) 357,816

평균거래량(3M,천주) 3,118

평균거래대금(3M,백만원) 116,119

배당수익률(11F, %) 1.3

외국인 지분율(%) 31.8

주요주주 지분율(%)

LG전자외 1인 37.9

국민연금공단 6.5

Company Performance 주가수익률(%) 1M 3M 6M 12M

절대수익률 -5.9 3.4 -3.2 -8.3

KOSPI대비상대수익률 -3.2 -1.5 -12.0 -40.2

Company vs KOSPI composite

05,000

10,00015,00020,00025,00030,00035,00040,00045,00050,000

10.5 10.8 10.11 11.2 11.56065707580859095100105110

주가(좌,원)

KOSPI지수대비(우, p)



LG디스플레이 (034220.KS) 재무제표

대차대조표(IFRS연결기준) 손익계산서(IFRS연결기준) (단위:십억원) 2009A 2010A 2011F 2012F 2013F (단위:십억원) 2009A 2010A 2011F 2012F 2013F

유동자산 8,210 8,840 8,571 8,446 8,749 매출액 20,614 25,512 25,418 27,325 27,397

현금성자산 3,362 3,169 2,217 2,222 2,333 증가율 (%) 27 24 -0 8 0

매출채권 2,939 3,233 3,677 3,598 3,712 매출총이익 2,299 3,731 3,398 3,608 3,996

재고자산 1,705 2,215 2,451 2,398 2,474 매출총이익율 (%) 11 15 13 13 15

비유동자산 11,329 15,017 16,994 18,713 20,108 판매비와관리비 1,232 2,042 2,678 2,941 3,148

투자자산 1,391 1,662 1,729 1,800 1,873 증가율 (%) 35 66 31 10 7

유형자산 9,672 12,815 14,570 16,106 17,347 영업이익 1,067 1,310 720 667 848

무형자산 266 540 695 807 888 증가율 (%) -39 23 -45 -7 27

자산총계 19,538 23,858 25,565 27,158 28,856 EBITDA 3,905 4,614 4,168 4,583 5,103

유동부채 6,214 8,882 9,519 9,641 9,711 증가율 (%) -9 18 -10 10 11

매입채무 1,969 2,962 3,218 3,298 3,325 영업외손익 -123 -423 74 58 66

단기차입금 1,865 2,101 2,101 2,101 2,101 이자수익 126 91 203 211 220

비유동부채 3,108 3,915 4,458 5,503 6,550 이자비용 166 100 217 213 213

사채및장기차입금 2,076 2,543 3,043 4,043 5,043 외화관련손익 214 -109 0 0 0

기타비유동부채 667 1,065 1,109 1,154 1,201 지분법손익 6 21 20 20 20

부채총계 9,322 12,797 13,977 15,145 16,261 기타영업외손익 -303 -326 67 40 40

자본금 1,789 1,789 1,789 1,789 1,789 세전계속사업손익 944 1,266 794 725 914

자본잉여금 2,311 2,251 2,251 2,251 2,251 법인세비용 -104 106 63 121 153

자본조정 134 -35 -35 -35 -35 중단사업이익 0 0 0 0 0

자기주식 0 0 0 0 0 당기순이익 1,084 1,159 731 604 761

이익잉여금 5,886 7,031 7,583 8,009 8,590 증가율 (%) -0 7 -37 -17 26

자본총계 10,216 11,061 11,588 12,013 12,595 당기순이익률 (%) 5 5 3 2 3

총차입금 3,941 4,644 5,144 6,144 7,144 EPS 2,969 3,232 2,043 1,689 2,126

순차입금(순현금) 579 1,474 2,927 3,922 4,811 증가율 (%) -2 9 -37 -17 26

투하자본 10,483 12,167 14,131 15,537 16,991 완전희석EPS 2,043 1,689 2,126

증가율 (%) -17 26

현금흐름표(IFRS연결기준)

주요투자지표(IFRS연결기준) (단위:십억원) 2009A 2010A 2011F 2012F 2013F 2009A 2010A 2011F 2012F 2013F

영업활동현금흐름 4,096 4,884 4,074 4,743 4,864 주당지표(원)

당기순이익 1,084 1,159 731 604 761 EPS 2,969 3,232 2,043 1,689 2,126

유무형자산상각비 2,838 2,925 3,449 3,916 4,256 BPS 27,540 29,334 30,374 31,250 32,649

기타비현금손익가감 -223 -54 -60 -30 -30 DPS 500 500 500 500 500

운전자본의변동 -111 303 -46 253 -123 밸류에이션(배,%)

매출채권감소(증가) -881 -81 -445 80 -114 PER 13.2 12.3 18.5 22.3 17.7

재고자산감소(증가) -558 -510 -236 53 -76 PBR 1.4 1.4 1.2 1.2 1.2

매입채무증가(감소) 921 936 256 80 27 PCR 3.3 3.0 3.3 3.0 2.7

기타 407 -42 380 40 40 EV/ EBITDA 3.7 3.4 3.9 3.8 3.6

투자활동현금흐름 -4,504 -4,515 -4,601 -5,592 -5,608 배당수익율 1.3 1.3 1.3 1.3 1.3

단기투자자산처분(취득) 0 0 746 -32 -33 수익성 (%)

장기투자증권처분(취득) -28 0 11 4 4 영업이익율 5.2 6.6 2.8 2.4 3.1

설비투자 -3,807 -4,942 -4,985 -5,192 -5,205 EBITDA이익율 18.9 18.1 16.4 16.8 18.6

유형자산처분 8 2 0 0 0 순이익율 5.3 4.5 2.9 2.2 2.8

무형자산감소(증가) -109 -228 -372 -372 -372 ROE 11.2 11.0 6.5 5.1 6.2

재무활동현금흐름 -85 408 321 821 821 ROIC 7.7 13.7 5.0 3.7 4.3

차입금증가(감소) 94 565 500 1,000 1,000 안정성(%,배)

자본증가(감소) -179 -179 -179 -179 -179 순차입금/자기자본 5.7 13.3 25.3 32.6 38.2

배당금지급 179 179 179 179 179 유동비율 132.1 99.5 90.0 87.6 90.1

현금의 증가(감소) -506 813 -206 -28 77 이자보상배율 26.5 200.8 52.6 306.4 -132.4

기초현금 1,368 818 1,631 1,425 1,397 활동성 (회)

기말현금 862 1,631 1,425 1,397 1,475 총자산회전율 1.1 1.2 1.0 1.0 1.0

Gross cash flow 4,207 4,825 4,120 4,491 4,986 매출채권회전율 8.3 8.3 7.4 7.5 7.5

Gross investment 4,171 4,213 5,393 5,307 5,697 재고자산회전율 14.5 13.0 10.9 11.3 11.2

Free cash flow 37 612 -1,273 -816 -710 매입채무회전율 13.9 10.3 8.2 8.4 8.3






반도체/디스플레이 담당 곽민정 Tel. 368-6027/ [email protected]

2011년 세계적인 전자재료업체로 도약!!

목표주가 ‘150,000원’ 및 투자의견 ‘BUY’ 유지

당사는 패션업체에서 반도체/디스플레이용 전자재료 전문업체로 도약하고 있는 '제일모직'

에 대해 목표주가 '150,000원'과 투자의견 'BUY'를 유지한다. 목표주가 '150,000원'은

2011년 및 2012년 예상EPS대비 각각 21.4배, 19.4배이며, 이는 현 주가대비 20.0%의

상승여력이 있어 투자의견 'BUY'를 유지한다.

AMOLED용 재료를 중심으로 한 신규사업 본격화와 지속되는 시장지배력 강화 등에

주목 중장기적인 관점에서 지속적으로 매수전략 권고

당사는 중장기적인 관점에서 1) 차세대 디스플레이인 AMOLED용 재료를 중심으로 한

신규사업의 높은 성장성과 2) 전자재료사업부 중심으로 기업경쟁력 강화, 3) 상대적으로

높은 실적의 안정성 등에 주목하여 현 시점부터는 2011년에 대비해서 매수해야 할 것으로

판단한다. 특히, 2011년에는 신규사업 실적이 본격화되면서 Valuation이 한 단계 레벨업

될 것으로 전망된다.

2011년 매출액 및 영업이익 각각 21.9%yoy, 33.2%yoy 증가 예상

제일모직의 2011년 실적은 1) TV용 편광필름 본격적인 납품과 반도체 재료 공급 증가 등

에 따른 전자재료사업부 실적 호조와 2) AMOLED용 재료와 태양광용 재료 등과 같은

신규사업 실적 본격화, 3) 케미칼사업부 실적 개선 등으로 성장세를 지속할 것으로 판단된

다. 2011년 매출액 및 영업이익은 각각 21.9%yoy, 33.2%yoy 증가한 6조1,172억원,

4,450억원을 기록할 것으로 예상된다.

Financial Data(IFRS연결기준) 결산기(12월) 2009A 2010A 2011F 2012F 2013F

매출액(십억원) 4,261.1 5,018.6 6,117.2 6,815.1 7,701.3

영업이익(십억원) 263.8 334.2 445.0 503.7 579.1

세전계속사업손익(십억원) 155.3 314.4 425.1 471.1 549.7

당기순이익(십억원) 127.0 258.7 350.3 386.3 450.8

EPS(원) 2,540 5,174 7,007 7,726 9,015

증감률(%) -19.4 103.7 35.4 10.3 16.7

PER(배) 22.2 21.5 17.8 16.2 13.9

ROE(%) 7.1 10.9 12.0 11.9 12.4

PBR(배) 1.5 2.0 2.1 1.8 1.6

EV/EBITDA(배) 8.2 12.4 10.4 9.1 7.5


BUY(유지)

현재주가(5/20) 125,000원


KOSPI(pt) 2,111.5

KOSDAQ(pt) 486.2

액면가(원) 5,000

시가총액(십억원) 6,250.0

52주 최고/최저(원) 127,500 / 77,700



평균거래량(3M,천주) 546


배당수익률(11F, %) 0.6



미래에셋자산외 7인 8.6

국민연금공단 7.7


절대수익률 -2.0 -0.4 19.0 56.6

KOSPI대비상대수익률 0.7 -5.3 10.3 24.7


0

20,000

40,000

60,000

80,000

100,000

120,000

140,000

10.5 10.8 10.11 11.2 11.560

70

80

90

100

110

120

130

주가(좌,원)




제일모직 (001300.KS) 재무제표


유동자산 1,146 1,200 1,379 1,479 1,670 매출액 4,261 5,019 6,117 6,815 7,701

현금성자산 90 18 59 62 101 증가율 (%) 14 18 22 11 13

매출채권 444 461 525 558 612 매출총이익 1,244 1,484 1,630 1,762 1,915

재고자산 488 562 634 697 793 매출총이익율 (%) 29 30 27 26 25

비유동자산 1,972 2,815 3,141 3,438 3,699 판매비와관리비 980 1,150 1,185 1,258 1,335

투자자산 923 1,682 1,750 1,821 1,895 증가율 (%) 12 17 3 6 6

유형자산 988 1,104 1,353 1,571 1,751 영업이익 264 334 445 504 579

무형자산 61 29 38 46 52 증가율 (%) 10 27 33 13 15

자산총계 3,119 4,015 4,520 4,918 5,369 EBITDA 395 468 631 737 871

유동부채 607 809 885 930 996 증가율 (%) 12 19 35 17 18

매입채무 292 344 417 459 522 영업외손익 -108 -20 -20 -33 -29

단기차입금 50 0 0 0 0 이자수익 15 14 5 5 6

유동성장기부채 62 191 191 191 191 이자비용 41 27 25 22 20

비유동부채 542 444 558 561 532 외화관련손익 -3 -1 -16 -16 -16

사채및장기차입금 382 102 202 312 232 지분법손익 9 23 8 8 8

기타비유동부채 160 342 356 249 299 기타영업외손익 -88 -28 8 -8 -8

부채총계 1,149 1,253 1,443 1,491 1,527 세전계속사업손익 155 314 425 471 550

자본금 250 250 250 250 250 법인세비용 28 56 75 85 99

자본잉여금 431 429 429 429 429 중단사업이익 0 0 0 0 0

자본조정 362 933 934 934 934 당기순이익 127 259 350 386 451

자기주식 -56 -52 -52 -52 -52 증가율 (%) -19 104 35 10 17

이익잉여금 926 1,149 1,463 1,814 2,229 당기순이익률 (%) 3 5 6 6 6

자본총계 1,970 2,761 3,077 3,427 3,842 EPS 2,540 5,174 7,007 7,726 9,015

총차입금 494 293 393 503 423 증가율 (%) -19 104 35 10 17

순차입금(순현금) 404 275 334 441 322 완전희석EPS 7,007 7,726 9,015

투하자본 1,571 1,467 1,778 2,169 2,396 증가율 (%) 10 17



영업활동현금흐름 457 448 475 446 694 주당지표(원)

당기순이익 127 259 350 386 451 EPS 2,540 5,174 7,007 7,726 9,015

유무형자산상각비 131 134 186 233 291 BPS 38,168 54,643 60,763 67,619 75,791

기타비현금손익가감 41 30 1 -120 38 DPS 750 750 750 750 750

운전자본의변동 72 -11 -62 -53 -86 밸류에이션(배,%)

매출채권감소(증가) -95 -24 -65 -32 -54 PER 22.2 21.5 17.8 16.2 13.9

재고자산감소(증가) 46 -74 -72 -63 -96 PBR 1.5 2.0 2.1 1.8 1.6

매입채무증가(감소) 127 53 73 42 63 PCR 7.3 12.1 11.6 12.5 8.0

기타 -6 34 1 1 1 EV/ EBITDA 8.2 12.4 10.4 9.1 7.5

투자활동현금흐름 -170 -274 -499 -517 -539 배당수익율 1.3 0.7 0.6 0.6 0.6

단기투자자산처분(취득) -8 15 0 0 0 수익성 (%)

장기투자증권처분(취득) -8 -20 -55 -58 -61 영업이익율 6.2 6.7 7.3 7.4 7.5

설비투자 -124 -248 -428 -443 -462 EBITDA이익율 9.3 9.3 10.3 10.8 11.3

유형자산처분 7 1 0 0 0 순이익율 3.0 5.2 5.7 5.7 5.9

무형자산감소(증가) -31 -12 -16 -16 -16 ROE 7.1 10.9 12.0 11.9 12.4

재무활동현금흐름 -224 -235 64 74 -116 ROIC 12.7 18.1 22.6 20.9 20.8

차입금증가(감소) -239 -150 100 110 -80 안정성(%,배)

자본증가(감소) -35 -35 -36 -36 -36 순차입금/자기자본 20.5 10.0 10.9 12.9 8.4

배당금지급 36 36 36 36 36 유동비율 188.9 148.3 155.7 159.1 167.8

현금의 증가(감소) 64 -61 40 3 39 이자보상배율 10.0 25.8 21.9 29.9 42.5

기초현금 16 80 18 59 62 활동성 (회)

기말현금 80 18 59 62 101 총자산회전율 1.5 1.4 1.4 1.4 1.5

Gross cash flow 385 459 538 499 780 매출채권회전율 10.6 11.1 12.4 12.6 13.2

Gross investment 89 300 561 570 625 재고자산회전율 8.3 9.6 10.2 10.2 10.3

Free cash flow 296 158 -24 -71 155 매입채무회전율 18.6 15.8 16.1 15.6 15.7







세계적인 전공정 장비업체로 도약!!


당사는 디스플레이용 장비전문업체에서 반도체 및 태양전지산업으로 시장영역을 확대할

뿐만 아니라, LCD 및 AMOLED용 핵심적 전공정장비를 공급하며 세계적인 종합장비전문

업체로 도약하고 있는 '에스에프에이'에 대해 목표주가 '80,000원'과 투자의견 'BUY'를

유지한다. 목표주가 '80,000원'은 2011년 및 2012년 예상EPS대비 각각 15.2배, 11.6배

이며, 이는 현 주가대비 36.1%의 상승여력이 있어 투자의견 'BUY'를 유지한다.

급격히 증가하는 신규수주와 2011년 AMOLED용 핵심장비 공급, 반도체장비시장

진입 등에 주목 중장기적인 관점에서 지속적인 매수 권고

당사는 1) 삼성전자와의 높은 시너지효과와 2) 2011년 강한 실적 개선, 3) 삼성전자의

반도체 및 디스플레이산업에 대한 공격적인 투자 수혜, 4) 차세대 디스플레이인 AMOLED

장비 및 태양전지용 장비 공급에 따른 중장기적 높은 성장성 확보, 5) 반도체장비시장

진입, 6) 뛰어난 재무적 안정성 등에 주목하여 중장기적인 관점에서 지속적으로 매수할 것

을 권고한다.


에스에프에이의 2011년 실적은 삼성전자와의 높은 시너지효과에 의한 2010년 기수주와

AMOLED장비 공급, 반도체장비시장 진입 등으로 크게 개선될 것으로 판단된다. 2011년

매출액 및 영업이익 각각 91.9%yoy, 194.4%yoy 증가한 8,115억원, 1,112억원에 달할

것으로 예상된다.

Financial Data(IFRS연결기준) 결산기(12월) 2009A 2010A 2011F 2012F 2013F

매출액(십억원) 312.4 423.0 811.5 989.9 1,203.2

영업이익(십억원) 15.3 37.8 111.2 145.0 176.3

세전계속사업손익(십억원) 25.1 50.0 118.0 154.9 190.2

당기순이익(십억원) 18.0 39.4 94.3 124.0 152.2

EPS(원) 1,004 2,192 5,255 6,904 8,475

증감률(%) -63.8 118.3 139.7 31.4 22.8

PER(배) 33.3 22.4 11.2 8.5 6.9

ROE(%) 8.0 16.0 31.6 31.8 29.3

PBR(배) 2.6 3.3 3.2 2.4 1.8

EV/EBITDA(배) 10.5 16.4 6.6 4.6 3.3


BUY(유지)

현재주가(5/20) 58,800원


KOSPI(pt) 2,111.5

KOSDAQ(pt) 486.2

액면가(원) 500

시가총액(십억원) 1,055.7

52주 최고/최저(원) 70,200 / 28,499





배당수익률(11F, %) 0.9



㈜디와이에셋외 4인 36.8

삼성전자 10.2


절대수익률 -0.7 -12.8 18.8 91.9

KOSPI대비상대수익률 2.0 -17.6 10.0 60.0


0

10,000

20,000

30,000

40,000

50,000

60,000

70,000

80,000

10.5 10.8 10.11 11.2 11.560

80

100

120

140

160

180

200

주가(좌,원)




에스에프에이 (056190.KQ) 재무제표


유동자산 174 494 553 664 813 매출액 312 423 812 990 1,203

현금성자산 95 181 291 364 454 증가율 (%) -28 35 92 22 22

매출채권 42 87 92 106 120 매출총이익 38 70 156 204 248

재고자산 29 216 158 181 226 매출총이익율 (%) 12 17 19 21 21

비유동자산 141 136 156 181 212 판매비와관리비 22 32 45 59 72

투자자산 42 41 43 45 46 증가율 (%) -3 46 38 32 22

유형자산 99 94 113 136 165 영업이익 15 38 111 145 176

무형자산 0 1 0 0 0 증가율 (%) -71 146 194 30 22

자산총계 315 630 710 845 1,024 EBITDA 20 43 116 151 184

유동부채 73 356 368 387 423 증가율 (%) -65 111 174 30 22

매입채무 33 110 119 136 169 영업외손익 10 12 7 10 14

단기차입금 2 0 0 0 0 이자수익 5 5 6 9 13

비유동부채 14 9 10 10 10 이자비용 0 0 0 0 0

사채및장기차입금 0 0 0 0 0 외화관련손익 -2 2 -3 -3 -3

기타비유동부채 14 9 10 10 10 지분법손익 3 2 2 2 2

부채총계 87 366 377 397 434 기타영업외손익 4 3 2 2 2

자본금 5 9 9 9 9 세전계속사업손익 25 50 118 155 190

자본잉여금 25 20 20 20 20 법인세비용 7 11 24 31 38

자본조정 -17 -17 -34 -34 -34 중단사업이익 0 0 0 0 0

자기주식 -17 -17 -17 -17 -17 당기순이익 18 39 94 124 152

이익잉여금 216 252 337 452 595 증가율 (%) -64 118 140 31 23

자본총계 228 264 333 448 591 당기순이익률 (%) 6 9 12 13 13

총차입금 2 0 0 0 0 EPS 1,004 2,192 5,255 6,904 8,475

순차입금(순현금) -93 -181 -291 -364 -454 증가율 (%) -64 118 140 31 23

투하자본 117 51 9 49 101 완전희석EPS 5,255 6,904 8,475

증가율 (%) 31 23



영업활동현금흐름 -3 85 143 112 135 주당지표(원)

당기순이익 18 39 94 124 152 EPS 1,004 2,192 5,255 6,904 8,475

유무형자산상각비 5 5 5 6 8 BPS 12,715 14,674 18,497 24,904 32,882

기타비현금손익가감 -0 -2 -20 -2 -2 DPS 400 500 500 500 500

운전자본의변동 -27 33 63 -17 -23 밸류에이션(배,%)

매출채권감소(증가) 7 -50 -6 -14 -15 PER 33.3 22.4 11.2 8.5 6.9

재고자산감소(증가) 77 -189 58 -23 -44 PBR 2.6 3.3 3.2 2.4 1.8

매입채무증가(감소) -15 74 9 17 33 PCR 25.2 17.0 13.3 8.2 6.7

기타 -95 198 2 2 2 EV/ EBITDA 10.5 16.4 6.6 4.6 3.3

투자활동현금흐름 6 -46 -29 -34 -41 배당수익율 1.2 1.0 0.9 0.9 0.9

단기투자자산처분(취득) 11 -30 -5 -5 -5 수익성 (%)

장기투자증권처분(취득) 0 0 1 1 1 영업이익율 4.9 8.9 13.7 14.6 14.6

설비투자 -5 -8 -24 -30 -36 EBITDA이익율 6.5 10.1 14.3 15.3 15.3

유형자산처분 4 0 0 0 0 순이익율 5.8 9.3 11.6 12.5 12.6

무형자산감소(증가) 0 -1 0 0 0 ROE 8.0 16.0 31.6 31.8 29.3

재무활동현금흐름 -12 1 -9 -9 -9 ROIC 10.4 35.2 295.1 399.4 187.7

차입금증가(감소) 0 0 0 0 0 안정성(%,배)

자본증가(감소) -12 -4 -9 -9 -9 순차입금/자기자본 -40.8 -68.5 -87.4 -81.3 -76.8

배당금지급 12 4 9 9 9 유동비율 238.5 138.7 150.6 171.3 192.0

현금의 증가(감소) -9 40 105 68 85 이자보상배율 -3.1 -8.1 -18.8 -16.7 -13.9

기초현금 39 28 68 173 241 활동성 (회)

기말현금 30 68 173 241 326 총자산회전율 0.8 0.9 1.2 1.3 1.3


Gross investment 31 -17 -39 46 59 재고자산회전율 4.5 3.5 4.3 5.8 5.9

Free cash flow -8 69 119 82 99 매입채무회전율 8.0 5.9 7.1 7.8 7.9







AMOLED산업에서의 핵심적 재료업체!

목표주가 ‘30,000원’ 및 투자의견 ‘BUY’ 제시

당사는 AMOLED의 핵심적 유기재료업체인 '덕산하이메탈'에 대해 목표주가 '30,000원'과

투자의견 'BUY'를 제시한다. 목표주가 '30,000원'은 1) 2011년 예상EPS(1,024원)에

과거 6년간 최고가 평균 P/E 45.7배 수준을 적용한 것과 2) 2011년 예상BPS(3,269원)에

과거 6년간 최고가 평균 4.4배를 적용한 것의 평균값이며, 이는 현 주가대비 38.9%의

상승여력이 있어 투자의견 'BUY'를 제시한다.

AMOLED 재료사업부의 높은 성장성에 주목 중장기적으로 매수해야 할 시점

당사는 1) AMOLED산업이 초기 성장국면에 있기 때문에 비록 경쟁업체가 진입하더라도

높은 실적 성장세를 지속적으로 달성할 수 있으며, 2) 공정재료산업의 특성상 시장진입

장벽이 높고, 3) 동사의 AMOLED재료사업부의 수익성이 대단히 높아 향후 높은 실적달성

이 예상되어 Valuation에 대한 부담감이 크게 감소될 것이기 때문에 중장기적인 관점에서

매수해야 할 것으로 판단한다.


동사의 2011년 실적은 AMOLED 공정재료의 급격한 실적 성장과 솔더볼사업부의 지속적

인 실적 호조세로 높은 성장세를 시현할 것으로 판단된다. 2011년 매출액 및 영업이익은

기존 추정치대비 각각 79.3%yoy, 174.5%yoy 증가한 1,300억원, 360억원에 달할 것으로

예상된다.

Financial Data 결산기(12월) 2009A 2010A 2011F 2012F 2013F

매출액(십억원) 32.1 72.5 130.0 327.8 414.6

영업이익(십억원) 4.7 13.1 36.0 107.7 127.9

세전계속사업손익(십억원) 5.7 12.5 34.3 105.5 126.3

당기순이익(십억원) 4.7 10.1 29.6 89.7 107.3

EPS(원) 224 409 1,024 3,105 3,715

증감률(%) 흑전 82.7 150.1 203.4 19.7

PER(배) 58.2 49.6 21.1 7.0 5.8

ROE(%) 8.7 12.4 27.2 53.0 40.1

PBR(배) 7.8 8.9 6.6 3.4 2.2

EV/EBITDA(배) 38.5 23.6 13.3 5.0 3.7


BUY(신규)

현재주가(5/20) 21,600원

목표주가(12M, 신규) 30,000원 Key Data (기준일: 2011. 5. 20)

KOSPI(pt) 2,111.5

KOSDAQ(pt) 486.2

액면가(원) 200

시가총액(십억원) 634.2

52주 최고/최저(원) 27,350 / 15,750





배당수익률(11F, %) n.a



이준호외 10인 42.6

덕산하이메탈㈜ 17.1


절대수익률 -11.7 -11.5 -0.7 25.6

KOSPI대비상대수익률 -9.0 -16.4 -9.5 -6.4


0

5,000

10,000

15,000

20,000

25,000

30,000

10.5 10.8 10.11 11.2 11.560

70

80

90

100

110

120

130

주가(좌,원)




I. AMOLED산업 성장의 핵심적 수혜업체!

1. Valuation 및 투자전략

1) 목표주가 ‘30,000원’ 및 투자의견 ‘BUY’ 제시

당사는 AMOLED의 핵심적 유기재료업체인 '덕산하이메탈'에 대해 목표주가 '30,000원'과 투자의견 'BUY'

를 제시한다. 목표주가 '30,000원'은 1) 2011년 예상EPS(1,024원)에 과거 6년간 최고가 평균 P/E 45.7배

수준을 적용한 것과 2) 2011년 예상BPS(3,269원)에 과거 6년간 최고가 평균 4.4배를 적용한 것의 평균값

이며, 이는 현 주가대비 38.9%의 상승여력이 있어 투자의견 'BUY'를 제시한다.

동사 주가는 최근 삼성전자의 공격적인 AMOLED라인 투자와 양호한 실적 달성 등에도 불구하고 1) 새로운

경쟁업체의 시장진입에 대한 우려와 2) 기관들의 차익매물 등으로 박스권에서 횡보세를 보이고 있다.

그러나, 당사는 1) AMOLED산업이 초기 성장국면에 있기 때문에 비록 경쟁업체가 진입하더라도 높은 실적

성장세를 지속적으로 달성할 수 있으며, 2) 공정재료산업의 특성상 신규업체가 시장에 진입하기 어렵고, 3)

동사의 AMOLED재료사업부의 수익성이 대단히 높아 향후 높은 실적달성이 예상되어 Valuation에 대한

부담감이 크게 감소되기 때문에 중장기적인 관점에서 매수해야 할 것으로 판단한다.

도표 72

2005 2006 2007 2008 2009 2010 AVG

P/E(배)

High 138.1 15.0 14.0 -43.5 91.5 59.1 45.7

Low 79.1 10.4 9.8 -11.4 6.9 29.2 20.7

Average 108.1 12.4 11.3 -28.4 38.1 44.8 31.1

P/B(배)

High 4.1 3.0 2.5 2.5 7.1 7.5 4.4

Low 2.3 2.0 1.8 0.7 0.5 3.7 1.8

Average 3.2 2.4 2.1 1.6 3.0 5.7 3.0

EV/EBITDA(배)

High 15.4 11.9 18.0 17.3 59.0 28.1 25.0

Low 7.7 7.1 10.7 5.6 3.3 13.7 8.0

Average 11.4 9.7 13.6 11.8 22.6 21.2 15.1

영업이익률(%) 31.6 37.1 29.9 21.7 14.6 18.1 25.5

ROE(%) 3.3 22.2 19.1 -4.9 8.7 12.4 10.1


‘ ’



2) 투자포인트 세 가지

동사에 대한 투자포인트를 다음과 같이 제시한다. 첫째, 삼성전자의 AMOLED라인에 대한 공격적인 투자가

진행되고 있으며, 2Q11부터 5.5세대라인이 본격적으로 가동됨에 따라 향후 AMOLED재료시장이 높은

성장성을 시현할 것으로 예상된다.

둘째, 동사의 2011년 및 2012년 높은 실적 성장세를 달성할 것으로 전망되는 점이다. 동사는 현재

AMOLED 공정재료 중 HTL을 SMD에 독점 공급하고 있으며, 경쟁업체 진입이 예상됨에도 불구하고.

2011년 및 2012년 매출액은 각각 79.3%yoy, 152.2%yoy 증가한 1,300억원, 3,278억원에 달할 것으로

전망된다.

셋째, 동사의 기존 주력사업부인 솔더볼사업부 실적 역시 안정세를 지속할 것으로 예상되어, 향후 cash-

cow 역할을 하며 실적의 안정판이 될 것으로 판단된다. 세계시장점유율 18%를 차지하고 있는 동사의 솔더

볼 사업부는 일본 센츄메탈에 이어 세계 2위 업체이며, 국내시장에서는 삼성전자와 하이닉스 등 주요 반도

체업체들에게 공급하고 있고 국내시장점유율이 70~80%에 달한다. 특히, 삼성전자는 매년 신규라인을 증설

하고 있어 패키징 물량이 지속적으로 증가함에 따라 동사의 수혜가 가속될 것으로 전망된다.

도표 73

0.0

50.0

100.0

150.0

200.0

250.0

300.0

350.0

400.0

450.0

2005 2006 2007 2008 2009 2010 2011F 2012F 2013F

0

5

10

15

20

25

30

35

40

매출액

영업이익률

(십억원) (%)




2. 실적전망

1) 2011년 매출액 및 영업이익 각각 79.3%yoy, 174.5%yoy 증가 예상

동사의 2011년 실적은 AMOLED 공정재료의 급격한 실적 성장과 솔더볼사업부의 지속적인 실적 호조세로

높은 성장세를 시현할 것으로 판단된다. 2011년 매출액 및 영업이익은 기존 추정치대비 각각 79.3%yoy,

174.5%yoy 증가한 1,300억원, 360억원에 달할 것으로 예상된다.

동사의 2Q11 실적은 SMD의 5.5세대라인 가동효과에 따른 AMOLED 공정재료 공급 증가와 솔더볼사업부

의 호조 등으로 개선될 것으로 판단된다. 2Q11 매출액 및 영업이익은 각각 19.8%qoq, 28.1%qoq 증가한

279억원, 72억원을 기록할 것으로 전망된다.

도표 74

2009 1Q10 2Q10 3Q10 4Q10 2010 1Q11 2Q11F 3Q11F 4Q11F 2011F 1Q12F 2Q12F 3Q12F 4Q12F 2012F 2013F

실적(십억원)

매출액 32.1 12.5 17.0 21.8 21.2 72.5 23.3 27.9 34.3 44.6 130.0 49.6 80.3 101.5 96.3 327.8 414.6

영업이익 4.7 2.8 3.0 5.2 2.1 13.1 5.6 7.2 10.0 13.2 36.0 13.8 25.5 36.2 32.2 107.7 127.9

세전이익 5.7 2.6 2.8 5.0 2.1 12.5 5.8 6.6 9.4 12.6 34.3 13.2 24.9 35.7 31.7 105.5 126.3

순이익 4.7 0.7 2.2 3.7 3.6 10.1 5.3 5.6 8.0 10.7 29.6 11.3 21.2 30.3 26.9 89.7 107.3

수익성(%)

영업이익률 14.6 22.1 17.9 23.9 9.9 18.1 24.3 25.9 29.1 29.6 27.7 27.9 31.7 35.7 33.4 32.9 30.9

세전이익률 17.7 21.1 16.6 22.7 10.0 17.3 24.9 23.7 27.3 28.2 26.4 26.7 31.0 35.1 32.9 32.2 30.5

순이익률 14.7 5.8 12.8 16.7 17.0 14.0 22.9 20.1 23.2 24.0 22.8 22.7 26.4 29.9 28.0 27.4 25.9

사업부별 비중(%)

반도체사업부 79.8 60.3 56.6 50.2 49.6 53.3 54.1 48.9 43.0 34.6 43.4 28.5 19.1 16.3 18.0 19.3 17.2

AMOLED재료사업부 20.2 39.7 43.4 49.8 50.4 46.7 45.9 51.1 57.0 65.4 56.6 71.5 80.9 83.7 82.0 80.7 82.8




덕산하이메탈 (077360.KQ) 재무제표

대차대조표 손익계산서 (단위:십억원) 2009A 2010A 2011F 2012F 2013F (단위:십억원) 2009A 2010A 2011F 2012F 2013F

유동자산 26 22 36 88 156 매출액 32 72 130 328 415

현금성자산 15 5 7 27 78 증가율 (%) 42 125 79 152 26

매출채권 4 7 14 30 39 매출총이익 12 30 62 173 211

재고자산 4 7 13 29 37 매출총이익율 (%) 39 41 48 53 51

비유동자산 66 90 127 164 198 판매비와관리비 8 17 26 66 83

투자자산 18 19 19 20 21 증가율 (%) 85 115 55 155 26

유형자산 18 44 78 112 144 영업이익 5 13 36 108 128

무형자산 30 27 30 32 34 증가율 (%) -4 179 174 199 19

자산총계 92 112 163 252 355 EBITDA 8 22 49 125 150

유동부채 16 11 16 24 30 증가율 (%) 37 164 127 154 20

매입채무 1 3 7 16 21 영업외손익 1 -1 -2 -2 -2

단기차입금 6 2 2 2 2 이자수익 1 0 0 0 1

유동성장기부채 0 3 3 3 3 이자비용 2 1 1 1 0

비유동부채 6 7 23 13 3 외화관련손익 0 -0 -0 -0 -0

사채및장기차입금 5 7 23 13 3 지분법손익 1 -0 -0 -0 -0

기타비유동부채 0 1 1 1 1 기타영업외손익 0 0 -0 -1 -1

부채총계 21 18 39 38 33 세전계속사업손익 6 13 34 106 126

자본금 5 6 6 6 6 법인세비용 1 2 5 16 19

자본잉여금 68 76 76 76 76 중단사업이익 0 0 0 0 0

자본조정 -23 -19 -18 -18 -18 당기순이익 5 10 30 90 107

자기주식 -22 -22 -22 -22 -22 증가율 (%) 흑전 114 191 203 20

이익잉여금 21 31 60 150 257 당기순이익률 (%) 15 14 23 27 26

자본총계 70 93 124 214 321 EPS 224 409 1,024 3,105 3,715

총차입금 11 11 27 17 7 증가율 (%) 흑전 83 150 203 20

순차입금(순현금) -3 6 20 -10 -71 완전희석EPS 1,024 3,105 3,715

투하자본 52 86 130 189 236 증가율 (%) 203 20

현금흐름표

주요투자지표 (단위:십억원) 2009A 2010A 2011F 2012F 2013F 2009A 2010A 2011F 2012F 2013F

영업활동현금흐름 10 10 35 84 118 주당지표(원)

당기순이익 5 10 30 90 107 EPS 224 409 1,024 3,105 3,715

유무형자산상각비 4 9 13 17 23 BPS 1,664 2,291 3,269 6,301 9,961

기타비현금손익가감 -2 4 0 0 0 DPS 0 0 0 0 0

운전자본의변동 4 -12 -8 -23 -12 밸류에이션(배,%)

매출채권감소(증가) -0 -4 -7 -16 -10 PER 58.2 49.6 21.1 7.0 5.8

재고자산감소(증가) -0 -3 -7 -15 -8 PBR 7.8 8.9 6.6 3.4 2.2

매입채무증가(감소) -1 1 5 8 6 PCR 45.5 22.5 14.5 5.8 4.8

기타 5 -7 0 0 0 EV/ EBITDA 38.5 23.6 13.3 5.0 3.7

투자활동현금흐름 -10 -28 -49 -54 -57 배당수익율 0.0 0.0 na na na

단기투자자산처분(취득) 0 0 0 0 0 수익성 (%)

장기투자증권처분(취득) 0 3 0 -1 -1 영업이익율 14.6 18.1 27.7 32.9 30.9

설비투자 -7 -28 -39 -43 -46 EBITDA이익율 25.5 29.9 37.8 38.2 36.3

유형자산처분 0 0 0 0 0 순이익율 14.7 14.0 22.8 27.4 25.9

무형자산감소(증가) -0 -4 -11 -11 -11 ROE 8.7 12.4 27.2 53.0 40.1

재무활동현금흐름 0 9 16 -10 -10 ROIC 11.1 15.4 28.7 57.3 51.2

차입금증가(감소) -12 2 16 -10 -10 안정성(%,배)

자본증가(감소) 12 6 0 0 0 순차입금/자기자본 -4.8 6.1 16.1 -4.8 -22.0

배당금지급 0 0 0 0 0 유동비율 165.3 194.6 229.3 361.1 519.6

현금의 증가(감소) 0 -9 2 20 50 이자보상배율 7.7 52.6 74.1 484.9 -369.9

기초현금 14 15 5 7 27 활동성 (회)

기말현금 15 5 7 27 78 총자산회전율 0.4 0.7 0.9 1.6 1.4



Free cash flow 0 -18 -14 30 60 매입채무회전율 29.8 37.2 26.4 28.5 22.3







반도체/디스플레이의 핵심적 전자재료업체!!

목표주가 '56,000원' 및 투자의견 'BUY' 유지

당사는 반도체/LCD의 핵심적 재료업체인 '테크노세미켐'에 대해 목표주가 '56,000원'과

투자의견 'BUY'를 유지한다. 목표주가 '56,000원'은 2011년 및 2012년 예상EPS대비 각

각 17.0배, 13.4배이며, 이는 현 주가대비 17.2%의 상승여력이 있다.

반도체/LCD용 전자재료의 안정적 실적 성장 지속 2011년 Thin Glass 및 전해질

부문 실적 성장에 주목

당사는 반도체/LCD용 전자재료를 공급하고 있는 동사의 실적이 안정적으로 성장할 뿐만

아니라, 2011년부터는 LCD/OLED용 Thin Glass사업부와 전해액 사업부 실적이 대폭

성장하면서 새로운 성장동력으로 작용할 것이며, 특히 일본지진 이후 중장기적으로 핵심적

재료부문에 대한 국산화가 가속화되면서 동사가 그 수혜를 크게 받을 것으로 판단됨에

따라, 중장기적인 관점에서 지속적으로 매수할 것을 권고한다.


동사의 2011년 실적은 LCD용 전자재료의 안정적 실적 성장 속에서 반도체용 전자재료

사업부 실적 호조와 Thin Glass 및 전해질 부문 실적 성장 등으로 개선될 것으로 판단된

다. 2011년 매출액 및 영업이익은 각각 37.3%yoy, 35.3%yoy 증가한 4,786억원, 666억

원을 기록할 것으로 예상된다.


매출액(십억원) 290.1 348.7 478.6 603.7 675.4

영업이익(십억원) 35.7 49.2 66.6 82.9 90.7

세전계속사업손익(십억원) 34.3 42.3 61.9 78.5 86.5

당기순이익(십억원) 25.5 33.0 48.3 61.2 67.5

EPS(원) 1,733 2,245 3,287 4,168 4,593

증감률(%) 36.2 29.6 46.4 26.8 10.2

PER(배) 12.5 13.6 14.5 11.5 10.4

ROE(%) 15.0 16.8 20.7 21.6 19.6

PBR(배) 1.8 2.1 2.8 2.2 1.9

EV/EBITDA(배) 7.0 8.1 8.9 7.1 6.2


BUY(유지)

현재주가(5/20) 47,800원


KOSPI(pt) 2,111.5

KOSDAQ(pt) 486.2

액면가(원) 500


52주 최고/최저(원) 48,200 / 19,850





배당수익률(11F, %) 0.6



정지완외 10인 52.2

알리안츠 자산운용㈜ 6.4


절대수익률 7.5 37.8 50.6 122.3

KOSPI대비상대수익률 10.2 32.9 41.8 90.4


0

10,000

20,000

30,000

40,000

50,000

60,000

10.5 10.8 10.11 11.2 11.560

80

100

120

140

160

180

주가(좌,원)




테크노세미켐 (036830.KQ) 재무제표


유동자산 75 88 143 152 184 매출액 290 349 479 604 675

현금성자산 23 8 41 30 48 증가율 (%) 30 20 37 26 12

매출채권 28 39 58 67 74 매출총이익 58 77 106 135 149

재고자산 18 27 31 40 47 매출총이익율 (%) 20 22 22 22 22

비유동자산 180 233 293 347 372 판매비와관리비 22 27 40 52 58

투자자산 93 115 120 124 130 증가율 (%) 13 24 45 32 12

유형자산 86 118 173 222 243 영업이익 36 49 67 83 91

무형자산 1 0 0 0 0 증가율 (%) 18 38 35 25 9

자산총계 255 321 436 499 556 EBITDA 49 63 88 112 124

유동부채 68 108 119 114 108 증가율 (%) 14 28 41 27 11

매입채무 17 22 33 38 42 영업외손익 -1 -7 -5 -4 -4

단기차입금 34 65 65 55 45 이자수익 1 0 1 1 1

유동성장기부채 9 2 2 2 2 이자비용 2 2 2 2 2

비유동부채 4 2 62 72 72 외화관련손익 1 -1 -1 -1 -1

사채및장기차입금 2 0 60 70 70 지분법손익 -0 -5 -2 -2 -2

기타비유동부채 2 2 2 2 2 기타영업외손익 -1 -0 0 0 0

부채총계 73 110 181 187 181 세전계속사업손익 34 42 62 78 86

자본금 7 7 7 7 7 법인세비용 9 9 14 17 19

자본잉여금 19 19 19 19 19 중단사업이익 0 0 0 0 0

자본조정 -1 -1 -1 -1 -1 당기순이익 25 33 48 61 67

자기주식 -3 -3 -3 -3 -3 증가율 (%) 36 30 46 27 10

이익잉여금 157 187 230 287 350 당기순이익률 (%) 9 9 10 10 10

자본총계 182 211 255 312 375 EPS 1,733 2,245 3,287 4,168 4,593

총차입금 44 67 127 127 117 증가율 (%) 36 30 46 27 10

순차입금(순현금) 21 59 86 97 69 완전희석EPS 3,287 4,168 4,593

투하자본 114 161 228 290 321 증가율 (%) 27 10

현금흐름표


영업활동현금흐름 37 40 60 79 93 주당지표(원)

당기순이익 25 33 48 61 67 EPS 1,733 2,245 3,287 4,168 4,593

유무형자산상각비 13 13 22 29 34 BPS 12,349 14,361 17,370 21,247 25,546

기타비현금손익가감 1 5 2 2 2 DPS 250 300 300 300 300

운전자본의변동 -3 -11 -12 -13 -10 밸류에이션(배,%)

매출채권감소(증가) -11 -11 -19 -10 -6 PER 12.5 13.6 14.5 11.5 10.4

재고자산감소(증가) 6 -9 -4 -9 -8 PBR 1.8 2.1 2.8 2.2 1.9

매입채무증가(감소) 4 5 11 6 4 PCR 8.0 8.8 9.8 7.6 6.8

기타 -3 4 0 0 0 EV/ EBITDA 7.0 8.1 8.9 7.1 6.2

투자활동현금흐름 -37 -76 -83 -85 -61 배당수익율 1.1 1.0 0.6 0.6 0.6

단기투자자산처분(취득) 10 -2 -0 -0 -0 수익성 (%)

장기투자증권처분(취득) -34 -28 -6 -7 -7 영업이익율 12.3 14.1 13.9 13.7 13.4

설비투자 -14 -51 -77 -78 -54 EBITDA이익율 16.9 18.0 18.5 18.6 18.4

유형자산처분 2 6 0 0 0 순이익율 8.8 9.5 10.1 10.1 10.0

무형자산감소(증가) 0 0 0 0 0 ROE 15.0 16.8 20.7 21.6 19.6

재무활동현금흐름 11 19 56 -4 -14 ROIC 23.4 27.9 26.7 25.0 23.1

차입금증가(감소) 14 22 60 0 -10 안정성(%,배)

자본증가(감소) -3 -4 -4 -4 -4 순차입금/자기자본 11.5 27.8 33.9 31.0 18.5

배당금지급 3 4 4 4 4 유동비율 109.8 81.7 120.9 132.8 169.5

현금의 증가(감소) 11 -17 32 -10 17 이자보상배율 28.4 38.4 35.9 50.7 65.3

기초현금 12 23 6 39 28 활동성 (회)

기말현금 23 6 39 28 45 총자산회전율 1.2 1.2 1.3 1.3 1.3



Free cash flow -10 -34 -23 -6 32 매입채무회전율 19.6 17.9 17.4 17.0 16.8




아바코(083930.KQ)



AMOLED 핵심공정장비업체로 성장!

목표주가 ‘20,000원’ 및 투자의견 ‘BUY’ 제시

당사는 LG디스플레이의 핵심적 LCD장비업체인 동시에 최근 AMOLED 전공정장비업체

로 성장하고 있는 '아바코'에 대해 목표주가 '20,000원'과 투자의견 'BUY'를 제시한다.

목표주가 '20,000원'은 2011년 예상EPS(1,553원)에 P/B 13배 수준을 적용한 것이며,

이는 현 주가대비 38.4%의 상승여력이 있어 투자의견 'BUY'를 제시한다.

LG디스플레이와의 높은 시너지효과 극대화 대규모 수주와 AMOLED/태양광

핵심장비시장 진입을 통한 중장기 성장성 확보 등에 주목

당사는 LG디스플레이가 2대주주로 참여하고 있는 동사가 높은 시너지효과를 발휘하

면서 대규모 수주가 지속되고 있을 뿐만 아니라, AMOLED용 전공정핵심장비와 태양

광장비시장에 진출하여 중장기 성장동력을 확보하고 있는 점에 주목하여 긍정적인

관점에서 접근할 것을 권고한다.


아바코의 2011년 실적은 LG디스플레이 P9과 AMOLED 투자, BOE 8세대라인 투자

가 본격적으로 진행되면서 대규모 수주가 예상됨에 따라 큰 폭으로 성장할 것으로

판단된다. 2011년 매출액 및 영업이익은 각각 37.2%yoy, 33.6%yoy 증가한 3,128억원,

218억원에 이를 것으로 예상된다.


매출액(십억원) 122.6 228.0 312.8 351.3 393.3

영업이익(십억원) 8.2 16.4 21.8 28.3 32.8

세전계속사업손익(십억원) 8.4 17.6 20.3 26.5 31.3

당기순이익(십억원) 11.3 14.6 15.9 21.2 25.1

EPS(원) 1,102 1,426 1,553 2,070 2,449

증감률(%) 48.4 29.4 8.9 33.3 18.3

PER(배) 6.5 11.7 9.3 7.0 5.9

ROE(%) 25.2 25.4 22.1 23.9 22.7

PBR(배) 1.5 2.7 1.9 1.5 1.2

EV/EBITDA(배) 3.7 9.5 4.8 3.5 2.6


BUY(신규)

현재주가(5/20) 14,450원

목표주가(12M, 신규) 20,000원 Key Data (기준일: 2011. 5. 20)

KOSPI(pt) 2,111.5

KOSDAQ(pt) 486.2

액면가(원) 500


52주 최고/최저(원) 19,200 / 8,500





배당수익률(11F, %) 1.2



위재곤외 5인 30.9

엘지디스플레이㈜ 19.9


절대수익률 -19.3 -15.0 4.3 53.7

KOSPI대비상대수익률 -16.6 -19.9 -4.5 21.8


0

5,000

10,000

15,000

20,000

25,000

10.5 10.8 10.11 11.2 11.560708090100110120130140150160

주가(좌,원)




I. AMOLED 핵심공정장비업체로 성장!

1. Valuation 및 투자전략

1) 목표주가 ‘20,000원’ 및 투자의견 ‘BUY’ 제시

당사는 LG디스플레이의 핵심적 LCD장비업체인 동시에 최근 AMOLED 전공정장비업체로 성장하고 있는

'아바코'에 대해 목표주가 '20,000원'과 투자의견 'BUY'를 제시한다. 목표주가 '20,000원'은 2011년 예상

EPS(1,553원)에 P/E 13배 수준을 적용한 것이며, 이는 현 주가대비 38.4%의 상승여력이 있어 투자의견

'BUY'를 제시한다.

동사 주가는 최근 1) 기관들의 차익매물 출회와 2) LG디스플레이의 AMOLED산업에 대한 다소 보수적인

투자전략 등으로 단기적으로 조정을 받고 있다. 당사는 LG디스플레이가 2대주주로 참여하고 있는 동사가

높은 시너지효과를 발휘하면서 대규모 수주가 지속되고 있을 뿐만 아니라, AMOLED용 전공정핵심장비와

태양광장비시장에 진출하여 중장기 성장동력을 확보하고 있는 점에 주목하여 긍정적인 관점에서 접근할 것

을 권고한다.

도표 75

2005 2006 2007 2008 2009 2010 AVG

P/E(배)

High 109.8 -11.1 221.5 9.2 7.1 11.7 58.0

Low 70.6 -3.5 104.4 2.6 2.2 3.9 30.0

Average 84.8 -6.1 145.2 4.8 4.7 7.3 40.1

P/B(배)

High 2.1 1.9 1.4 1.8 1.6 2.6 1.9

Low 1.4 0.6 0.6 0.5 0.5 0.9 0.8

Average 1.7 1.0 0.9 0.9 1.1 1.6 1.2

EV/EBITDA(배)

High 38.5 -12.3 54.9 9.1 4.4 9.5 17.4

Low 22.7 -3.7 23.4 1.1 -1.9 3.1 7.4

Average 28.4 -6.6 34.4 3.7 1.4 5.9 11.2

영업이익률(%) 2.0 -10.3 0.1 6.5 6.6 7.2 2.0

ROE(%) 2.1 -15.5 0.6 21.2 25.2 25.4 9.8


‘ ’



2) 투자포인트 네 가지

동사에 대한 투자포인트를 다음과 같이 제시한다. 첫째, 2008년부터 LG디스플레이가 2대주주로 참여하고

있는 동사가 LG디스플레이와의 시너지효과를 발휘하면서 높은 성장세를 시현하고 있다. 스퍼터장비뿐만

아니라, 물류장비를 공급하고 있고, AMOLED용 핵심공정장비를 공동으로 개발하여 중장기적으로 높은

성장세를 확보하고 있다. 게다가 태양광장비 시장도 진출하여 중장기 성장동력을 지속적으로 확보하고 있는

점은 높게 평가할 만 하다.

둘째, LG디스플레이가 2011년에 P98 투자를 실시함에 따라, 1Q11 중에 1,000억원 상당의 LCD장비를

수주할 뿐만 아니라, 2H11에도 P9의 두 번째 라인인 7.5세대라인 수주도 이어짐에 따라 2011년에도 LG

디스플레이 LCD라인에 약 2,000억원의 수주가 기대되는 점이다.

셋째, 2012년에는 LG디스플레이의 중국라인인 광저우 8세대 수주를 받을 것으로 예상되며, 규모의 경제를

이루기 위해 아바코의 수주규모는 국내라인보다 더 커질 전망이다. 당사는 스퍼터, 물류, 모듈장비 수주가

약 1,500억원에 이를 것이며, 특히 스퍼터의 점유율이 70~80%에 달할 것으로 예상된다. 이와 같이 2012

년에도 대규모 수주가 지속됨에 따라 중장기적으로 지속적으로 외형성장을 달성할 수 있을 것으로 전망된다.

넷째, 아바코는 LG디스플레이에 3.5세대 OLED 봉지장비를 공급하여, 향후 고객사의 AMOLED라인 투자

시 추가적으로 봉지장비를 수주받을 것으로 예상되며, 또한 스퍼터를 생산하면서 진공장비기술을 축적하고

있어 LG디스플레이가 진행하고 있는 AMOLED 증착기 국산화 프로젝트가 성공할 경우 아바코가 중장기적

으로 공급할 수 있을 것으로 전망된다. 즉, 아바코는 장기적으로 LG디스플레이의 핵심적 AMOLED장비업

체로 도약하며 지속적으로 성장할 것으로 예상된다.



2. 실적전망

1) 2011년 매출액 및 영업이익 각각 37.2%yoy, 33.6%yoy 증가 예상

아바코의 2011년 실적은 LG디스플레이 P9과 AMOLED 투자, BOE 8세대라인 투자가 본격적으로 진행되

면서 대규모 수주가 예상됨에 따라 큰 폭으로 성장할 것으로 판단된다. 2011년 매출액 및 영업이익은 각각

37.2%yoy, 33.6%yoy 증가한 3,128억원, 218억원에 이를 것으로 예상된다.

동사의 2Q11 실적은 P9 수주가 진행되면서 증가할 것으로 예상된다. 2Q11 매출액 및 영업이익은 P9라인

수주와 스퍼터 공급 증가 등으로 각각 1.3%qoq, 108.1%qoq 증가한 736억원, 52억원에 달할 것으로 전망

된다.

도표 76

2009 1Q10 2Q10 3Q10 4Q10 2010 1Q11 2Q11F 3Q11F 4Q11F 2011F 1Q12F 2Q12F 3Q12F 4Q12F 2012F 2013F

실적(십억원)

매출액 122.6 47.2 56.2 55.8 68.8 228.0 72.6 73.6 77.9 88.8 312.8 77.1 80.7 92.7 100.8 351.3 393.3

영업이익 8.2 3.3 5.0 4.9 3.2 16.4 2.5 5.2 6.2 8.0 21.8 5.4 6.5 8.3 8.1 28.3 32.8

세전이익 8.4 3.2 5.1 5.8 3.4 17.6 2.4 4.6 5.7 7.5 20.3 4.9 6.0 7.9 7.6 26.5 31.3

순이익 11.3 2.5 4.4 4.5 3.2 14.6 1.6 3.7 4.6 6.0 15.9 3.9 4.8 6.3 6.1 21.2 25.1

수익성(%)

영업이익률 6.6 7.0 8.9 8.8 4.6 7.2 3.4 7.0 8.0 9.0 7.0 7.0 8.0 9.0 8.0 8.0 8.3

세전이익률 6.8 6.8 9.1 10.4 5.0 7.7 3.3 6.3 7.4 8.5 6.5 6.4 7.4 8.5 7.6 7.5 8.0

순이익률 9.2 5.4 7.8 8.1 4.6 6.4 2.2 5.1 5.9 6.8 5.1 5.1 6.0 6.8 6.1 6.0 6.4

사업부별 비중(%)

반송장비 29.9 16.4 43.7 26.3 23.2 27.6 34.6 43.8 48.9 53.1 45.6 49.3 51.6 51.8 52.3 51.3 51.2

진공장비 29.9 16.4 43.7 26.3 23.2 27.6 34.6 43.8 48.9 53.1 45.6 49.3 51.6 51.8 52.3 51.3 51.2

전용기 24.8 39.2 19.4 22.7 64.3 37.9 33.6 27.1 26.0 23.0 27.2 25.6 24.4 23.8 23.3 24.2 23.4




아바코 (083930.KQ) 재무제표


유동자산 69 104 111 129 150 매출액 123 228 313 351 393

현금성자산 41 4 36 45 57 증가율 (%) 35 86 37 12 12

매출채권 24 94 68 77 87 매출총이익 15 28 41 50 58

재고자산 0 1 2 2 2 매출총이익율 (%) 12 12 13 14 15

비유동자산 29 30 38 46 56 판매비와관리비 7 11 19 22 25

투자자산 2 2 2 2 2 증가율 (%) -19 63 69 14 12

유형자산 27 28 36 44 54 영업이익 8 16 22 28 33

무형자산 0 0 0 0 0 증가율 (%) 38 101 34 29 16

자산총계 98 134 148 175 206 EBITDA 9 18 23 30 35

유동부채 44 62 63 69 77 증가율 (%) 38 99 33 29 16

매입채무 34 50 51 57 65 영업외손익 0 1 -2 -2 -1

단기차입금 0 0 0 0 0 이자수익 0 1 0 1 1

유동성장기부채 0 2 2 2 2 이자비용 0 0 0 0 0

비유동부채 4 7 7 7 8 외화관련손익 -0 0 -0 -0 -0

사채및장기차입금 0 0 0 0 0 지분법손익 0 0 0 0 0

기타비유동부채 4 7 7 7 8 기타영업외손익 0 1 -2 -2 -2

부채총계 48 69 69 77 84 세전계속사업손익 8 18 20 26 31

자본금 5 5 5 5 5 법인세비용 -3 3 4 5 6

자본잉여금 21 22 22 22 22 중단사업이익 0 0 0 0 0

자본조정 -1 -1 -1 -1 -1 당기순이익 11 15 16 21 25

자기주식 -2 -1 -1 -1 -1 증가율 (%) 63 29 9 33 18

이익잉여금 25 38 53 72 95 당기순이익률 (%) 9 6 5 6 6

자본총계 50 65 79 99 122 EPS 1,102 1,426 1,553 2,070 2,449

총차입금 0 2 2 2 2 증가율 (%) 48 29 9 33 18

순차입금(순현금) -41 -2 -35 -43 -55 완전희석EPS 1,553 2,070 2,449

투하자본 9 62 44 55 67 증가율 (%) 33 18

현금흐름표


영업활동현금흐름 43 -35 43 21 25 주당지표(원)

당기순이익 11 15 16 21 25 EPS 1,102 1,426 1,553 2,070 2,449

유무형자산상각비 1 1 2 2 2 BPS 4,882 6,290 7,688 9,602 11,889

기타비현금손익가감 2 6 0 0 0 DPS 110 165 170 170 170

운전자본의변동 30 -56 26 -3 -3 밸류에이션(배,%)

매출채권감소(증가) 9 -70 26 -9 -10 PER 6.5 11.7 9.3 7.0 5.9

재고자산감소(증가) 1 -1 -1 -0 -0 PBR 1.5 2.7 1.9 1.5 1.2

매입채무증가(감소) 19 16 0 7 7 PCR 5.4 8.0 8.4 6.3 5.3

기타 1 -2 0 0 0 EV/ EBITDA 3.7 9.5 4.8 3.5 2.6

투자활동현금흐름 -15 7 -9 -11 -12 배당수익율 1.5 1.0 1.2 1.2 1.2

단기투자자산처분(취득) 2 5 -0 -0 -0 수익성 (%)

장기투자증권처분(취득) -5 5 -0 -0 -0 영업이익율 6.6 7.2 7.0 8.0 8.3

설비투자 -12 -2 -9 -11 -12 EBITDA이익율 7.3 7.8 7.5 8.6 8.9

유형자산처분 0 0 0 0 0 순이익율 9.2 6.4 5.1 6.0 6.4

무형자산감소(증가) -0 -0 -0 -0 -0 ROE 25.2 25.4 22.1 23.9 22.7

재무활동현금흐름 -1 1 -2 -2 -2 ROIC 30.1 38.1 32.2 45.7 43.1

차입금증가(감소) -1 -0 0 0 0 안정성(%,배)

자본증가(감소) -1 0 -2 -2 -2 순차입금/자기자본 -80.9 -3.7 -43.9 -44.0 -45.0

배당금지급 1 1 2 2 2 유동비율 155.2 166.8 177.0 185.3 195.8

현금의 증가(감소) 28 -27 32 9 12 이자보상배율 -40.7 -50.7 -58.2 -47.1 -35.3

기초현금 3 31 4 36 45 활동성 (회)

기말현금 31 4 36 45 57 총자산회전율 1.5 2.0 2.2 2.2 2.1


Gross investment -13 54 -16 13 14 재고자산회전율 148.8 354.2 239.5 200.1 198.3

Free cash flow 26 -32 34 10 13 매입채무회전율 4.9 5.4 6.2 6.5 6.4





Small-Cap 담당 최순호 Tel. 368-6153 / [email protected]

Small-Cap 담당 변준호 Tel. 368-6141 / [email protected]

차세대 디스플레이 전극소재 채택을 꿈꾸다!


태양광/디스플레이 전문 소재기업 '나노신소재'에 대해 목표주가 '22,000원'과 투자의견

'BUY'를 유지한다. 목표주가는 2011년과 2012년 예상EPS 대비 각각 11.7배, 8.3배이

다. 현 주가대비 23.2%의 상승여력을 보유 중이며, 코스닥 화학업종 평균PER(17.6배)

대비 여전히 34% 낮은 수준으로 Valuation 매력을 보유하고 있다.

일본 지진관련 수혜와 차세대 디스플레이 신규진입 가능성에 주목

1Q11기준 태양전지용 TCO 매출비중은 34.8%로 감소하고('10년 56%), 디스플레이 비중

은 17.2%로 증가하고 있다('10년 14%). 이는, 일본 대지진 영향으로 소재수급이 어려워짐

에 따라 동사의 디스플레이 소재매출이 증가하고 있기 때문이다. 또한 동사는 TCO시장의

90%를 차지하는 LCD와 향후 차세대 디스플레이인 AMOLED시장에 신규 진입할 가능성

이 높다. 현재 디스플레이 TCO시장은 대기업 계열사들이 과점하고 있어 동사는 LED와

터치관련 매출만 가능하다. 그러나 향후 차세대 산화물 반도체가 채택될 경우, 동사의 디

스플레이 부문 매출은 크게 성장할 기회를 갖게 될 것이다.

2011년 매출액 및 영업이익 각각 36.4%yoy, 33.3%yoy 증가할 전망

2011년 매출액 및 영업이익은 각각 36.4%yoy, 33.3%yoy 증가한 379억원, 115억원을

기록할 전망이다. 2H11에는 대만, 중국 등 신규 거래처 확보와 태양전지용 실버페이스트

신규 매출이 발생하여 연간 매출액 달성 가능성이 높은 상황이다. 한편, 2Q11 매출액은

90억원으로 분기 사상최대 실적을 기록할 전망이다.

Financial Data 결산기(12월) 2008A 2009A 2010A 2011F 2012F

매출액(십억원) 12.2 20.0 27.8 37.9 48.3

영업이익(십억원) 3.5 5.2 8.7 11.5 15.9

세전계속사업손익(십억원) 1.8 5.1 8.1 12.4 17.4

당기순이익(십억원) 1.7 4.6 6.9 10.7 15.0

EPS(원) 347 900 1,311 1,526 2,143

증감률(%) 0.0 159.4 45.6 16.4 40.5

PER(배) na na na 11.7 8.3

ROE(%) 15.6 31.1 31.7 22.9 20.1

PBR(배) na na na 2.0 1.6

EV/EBITDA(배) 1.5 2.4 1.6 8.4 6.0


BUY(유지)

현재주가(5/20) 17,850원


KOSPI(pt) 2,111.5

KOSDAQ(pt) 486.2

액면가(원) 500


52주 최고/최저(원) 21,700 / 13,700





배당수익률(11F, %) 0.0



박장우외 9인 60.7


절대수익률 -13.6 25.7 NA NA

KOSPI대비상대수익률 -10.9 20.8 NA NA


0

5,000

10,000

15,000

20,000

25,000

11.2 11.560

70

80

90

100

110

120

130

140

주가(좌,원)




나노신소재(121600.KQ) 재무제표

대차대조표 손익계산서 (단위:십억원) 2008A 2009A 2010A 2011F 2012F (단위:십억원) 2008A 2009A 2010A 2011F 2012F

유동자산 13.4 22.8 28.2 78.3 88.7 매출액 12.2 20.0 27.8 37.9 48.3

현금성자산 1.7 1.6 2.9 45.3 51.6 증가율 (%) 0.0 63.4 39.3 36.4 27.4

매출채권 3.6 4.3 8.0 10.1 12.4 매출총이익 6.8 9.4 13.9 18.4 24.6

재고자산 7.7 16.2 15.6 21.7 23.2 매출총이익율 (%) 55.4 46.8 49.9 48.4 50.9

비유동자산 9.7 14.8 21.1 27.2 36.5 판매비와관리비 3.2 4.2 5.2 8.4 10.0

투자자산 0.0 0.4 0.9 0.7 1.1 증가율 (%) 0.0 29.3 24.4 60.7 18.9

유형자산 9.2 13.7 19.2 24.8 33.0 영업이익 3.5 5.2 8.7 11.5 15.9

무형자산 0.5 0.8 1.0 1.7 2.5 증가율 (%) 0.0 46.3 67.7 33.3 37.3

자산총계 23.2 37.6 49.3 105.4 125.3 EBITDA 4.7 6.6 10.1 13.8 18.9

유동부채 5.2 10.6 10.6 22.7 24.4 증가율 (%) 0.0 40.0 54.0 37.1 36.3

매입채무 0.2 0.3 0.1 0.3 0.4 영업외손익 -1.7 0.0 -0.6 0.8 1.5

단기차입금 3.2 7.8 5.0 16.0 16.6 이자수익 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0

유동성장기부채 0.6 0.5 2.2 1.9 1.6 이자비용 0.4 0.6 0.7 0.6 0.7

비유동부채 5.5 9.5 12.7 15.8 19.0 외화관련손익 0.3 0.1 -0.4 0.3 0.4

사채및장기차입금 4.9 8.8 11.6 14.7 17.9 지분법손익 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0

기타비유동부채 0.6 0.7 1.2 1.2 1.2 기타영업외손익 -1.7 0.4 0.5 1.1 1.8

부채총계 10.7 20.2 23.4 38.5 43.4 세전계속사업손익 1.8 5.1 8.1 12.4 17.4

자본금 1.7 2.6 2.7 3.6 3.6 법인세비용 0.1 0.5 1.2 1.7 2.4

자본잉여금 5.9 5.1 6.6 36.0 36.0 중단사업이익 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0

자본조정 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 당기순이익 1.7 4.6 6.9 10.7 15.0

자기주식 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 증가율 (%) 0.0 171.1 48.2 54.6 40.5

이익잉여금 4.8 9.8 16.7 27.3 42.3 당기순이익률 (%) 14.0 23.3 24.8 28.1 31.0

자본총계 12.5 17.4 26.0 66.9 81.9 EPS 347 900 1,311 1,526 2,143

총차입금 8.7 17.1 18.8 32.6 36.1 증가율 (%) 0 159 46 16 40

순차입금(순현금) 7.0 15.6 15.9 -12.7 -15.5 완전희석EPS 0 1,526 2,143

투하자본 19.5 33.0 41.9 54.2 66.4 증가율 (%) na 40

현금흐름표

주요투자지표 (단위:십억원) 2008A 2009A 2010A 2011F 2012F 2008A 2009A 2010A 2011F 2012F

영업활동현금흐름 0.3 -2.0 6.7 6.9 14.7 주당지표(원)

당기순이익 1.7 4.6 6.9 10.7 15.0 EPS 347 900 1,311 1,526 2,143

유무형자산상각비 1.2 1.4 1.4 2.3 3.0 BPS 2,313 3,231 4,676 9,015 10,983

기타비현금손익가감 0.8 0.3 0.8 0.3 -0.4 DPS 0 0 0 0 0

운전자본의변동 -3.4 -8.3 -2.4 -6.3 -2.8 밸류에이션(배,%)

매출채권감소(증가) -2.3 -0.9 -3.9 -2.1 -2.3 PER na na na 11.7 8.3

재고자산감소(증가) -1.5 -8.5 0.5 -6.0 -1.5 PBR na na na 2.0 1.6

매입채무증가(감소) 0.1 0.1 -0.2 0.2 0.1 PCR na na na 9.4 7.1

기타 0.4 1.0 1.1 1.7 0.9 EV/ EBITDA 1.5 2.4 1.6 8.4 6.0

투자활동현금흐름 -3.6 -6.4 -8.0 -11.3 -10.9 배당수익율 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0

단기투자자산처분(취득) 0.4 0.2 0.0 -2.8 1.0 수익성 (%)

장기투자증권처분(취득) 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 영업이익율 28.9 25.9 31.1 30.4 32.8

설비투자 -3.5 -5.8 -6.9 -7.8 -11.1 EBITDA이익율 38.3 32.8 36.3 36.5 39.0

유형자산처분 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 순이익율 14.0 23.3 24.8 28.1 31.0

무형자산감소(증가) -0.5 -0.8 -0.9 -0.8 -0.8 ROE 15.6 31.1 31.7 22.9 20.1

재무활동현금흐름 3.6 8.4 3.0 44.1 3.6 ROIC 20.2 17.8 19.8 20.7 22.6

차입금증가(감소) 3.6 8.4 1.3 13.8 3.6 안정성(%,배)

자본증가(감소) 0.0 0.0 1.6 30.3 0.0 순차입금/자기자본 56.2 89.3 61.1 -19.0 -18.9

배당금지급 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 유동비율 258.6 214.2 265.6 344.9 364.3

현금의 증가(감소) 0.3 0.0 1.6 39.6 7.3 이자보상배율 9.2 9.5 12.6 20.5 24.3

기초현금 1.3 1.5 1.6 2.9 42.5 활동성 (회)

기말현금 1.5 1.6 3.2 42.5 49.8 총자산회전율 0.6 0.7 0.6 0.5 0.4

Gross cash flow 3.7 6.4 9.1 13.2 17.6 매출채권회전율 4.9 5.0 4.5 4.2 4.3

Gross investment 7.4 14.9 10.5 14.9 14.8 재고자산회전율 1.8 1.7 1.8 2.0 2.2

Free cash flow -3.7 -8.6 -1.3 -1.7 2.8 매입채무회전율 101.4 82.7 132.2 191.1 148.1




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투자기간 및 투자등급

종목추천 및 업종추천 투자기간 : 12개월 (추천기준일 종가대비 추천종목의 예상 목표수익률을 의미함)

상기 투자등급은 3월 3일부터 변경 적용함

변경후 변경전

ㆍSTRONG BUY : 추천기준일 종가대비 +50%이상

ㆍBUY: 추천기준일 종가대비 +20%이상 ~ +50%미만

ㆍHOLD: 추천기준일 종가대비 0%이상 ∼ +20%미만

ㆍREDUCE: 추천기준일 종가대비 0%미만

ㆍSTRONG BUY : 추천기준일 종가대비 +50%이상

ㆍBUY: 추천기준일 종가대비 +15%이상 ~ +50%미만

ㆍHOLD: 추천기준일 종가대비 +5%이상 ∼ +15%미만

ㆍREDUCE: 추천기준일 종가대비 +5%미만

과거 2년간 투자의견 및 목표주가 변동내역

추천일자 투자의견 목표가(원) LG디스플레이(034220.KS) 주가 및 목표주가 추이

2009-06-23 BUY 40,000

2009-07-07 BUY 40,000

2009-07-17 BUY 44,000

2009-08-19 BUY 44,000

2009-10-13 BUY 44,000

2009-10-16 BUY 44,000

2009-10-30 BUY 44,000

2009-12-21 BUY 44,000

2010-01-14 BUY 49,000

2010-01-21 BUY 49,000

2010-08-16 BUY 50,000

2010-08-30 BUY 50,000

2010-09-15 BUY 50,000

2010-10-22 BUY 50,000

2010-11-22 BUY 50,000

2011-01-05 BUY 50,000

2011-01-24 BUY 50,000

2011-03-14 BUY 50,000

2011-03-29 BUY 45,000

2011-04-19 HOLD 40,000

2011-05-09 HOLD 40,000

2011-05-23 HOLD 40,000

0

10,000

20,000

30,000

40,000

50,000

60,000

09/05 09/08 09/11 10/02 10/05 10/08 10/11 11/02 11/05

LG디스플레이

목표주가

애널리스트 변경




추천일자 투자의견 목표가(원) 제일모직(001300.KS) 주가 및 목표주가 추이

2010-08-16 BUY 130,000

2010-09-15 BUY 130,000

2010-10-11 BUY 130,000

2010-11-04 BUY 130,000

2010-11-22 BUY 130,000

2010-12-23 BUY 130,000

2011-01-05 BUY 150,000

2011-01-26 BUY 150,000

2011-03-14 BUY 150,000

2011-03-29 BUY 150,000

2011-04-13 BUY 150,000

2011-05-09 BUY 150,000

2011-05-23 BUY 150,000

0

20,000

40,000

60,000

80,000

100,000

120,000

140,000

160,000

09/05 09/08 09/11 10/02 10/05 10/08 10/11 11/02 11/05

제일모직

목표주가애널리스트 변경


추천일자 투자의견 목표가(원) 에스에프에이(056190.KQ) 주가 및 목표주가 추이

2010-08-16 Strong BUY 100,000

2010-08-23 Strong BUY 100,000

2010-09-06 Strong BUY 60,000

2010-09-15 Strong BUY 60,000

2010-11-12 Strong BUY 70,000

2010-11-22 Strong BUY 70,000

2010-11-29 Strong BUY 70,000

2010-12-14 Strong BUY 70,000

2011-01-05 BUY 70,000

2011-02-15 BUY 80,000

2011-03-29 BUY 80,000

2011-05-09 BUY 80,000

2011-05-12 BUY 80,000

2011-05-23 BUY 80,000

0

20,000

40,000

60,000

80,000

100,000

120,000

09/05 09/08 09/11 10/02 10/05 10/08 10/11 11/02 11/05

에스에프에이

목표주가

무상증자 100% 실시


추천일자 투자의견 목표가(원) 덕산하이메탈(077360.KQ) 주가 및 목표주가 추이

2011-05-23 BUY 30,000

0

5,000

10,000

15,000

20,000

25,000

30,000

35,000

09/05 09/08 09/11 10/02 10/05 10/08 10/11 11/02 11/05

덕산하이메탈

목표주가




추천일자 투자의견 목표가(원) 테크노세미켐(036830.KQ) 주가 및 목표주가 추이

2009-06-16 BUY 22,000

2009-12-16 BUY 27,000

2011-02-28 BUY 43,000

2011-03-29 BUY 43,000

2011-05-09 BUY 56,000

2011-05-23 BUY 56,000

0

10,000

20,000

30,000

40,000

50,000

60,000

09/05 09/08 09/11 10/02 10/05 10/08 10/11 11/02 11/05

테크노세미켐

목표주가

애널리스트 변경


추천일자 투자의견 목표가(원) 아바코(083930.KQ) 주가 및 목표주가 추이

2011-05-23 BUY 20,000

0

5,000

10,000

15,000

20,000

25,000

09/05 09/08 09/11 10/02 10/05 10/08 10/11 11/02 11/05

아바코

목표주가


추천일자 투자의견 목표가(원) 나노신소재(121600.KQ) 주가 및 목표주가 추이

2011-03-22 BUY 22,000

2011-04-05 BUY 22,000

2011-05-23 BUY 22,000

0

5,000

10,000

15,000

20,000

25,000

2011-02 2011-03 2011-04 2011-05

나노신소재

목표주가

(원)

AMOLED Overweight(신규) · 2014. 4. 12. · 적용한 amoled 디스플레이가 향후 적용...

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